吉村 尚郎 | (株)東芝 デバイス技術研究所

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概要

• 同名の論文著者
• (株)東芝 デバイス技術研究所の論文著者

関連著者

• 吉村 尚郎

  (株)東芝 セミコンダクター社システムLSI開発センター

• 豊島 義明

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 吉村 尚郎

  (株)東芝 デバイス技術研究所

• 高木 万里子

  (株)東芝 デバイス技術研究所

• 大内 和也

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 飯沼 俊彦

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 宮下 桂

  (株)東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所 デバイス技術研究所

• 吉村 尚郎

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 大内 和也

  SoC研究開発センター

• 飯沼 俊彦

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 圷 晴子

  (株)東芝

• 須黒 恭一

  (株)東芝

• 宮下 桂

  東芝

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著作論文

• 0.15μm世代以降のサリサイドプロセス
• N2Oオキシナイトライドプロセスが微細MOSFETトランジスタ特性に与える影響
• N_2O オキシナイトライドプロセスが微細MOSFETトランジスタ特性に与える影響

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