0.15μm世代以降のサリサイドプロセス
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概要
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- 1998-12-03
著者
-
大内 和也
(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
-
吉村 尚郎
(株)東芝 セミコンダクター社システムLSI開発センター
-
豊島 義明
(株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター
-
飯沼 俊彦
(株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
須黒 恭一
(株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター
-
宮下 桂
(株)東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所 デバイス技術研究所
-
吉村 尚郎
東芝セミコンダクター社システムLSI事業部
-
大内 和也
SoC研究開発センター
-
飯沼 俊彦
株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
吉村 尚郎
(株)東芝 デバイス技術研究所
-
須黒 恭一
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
圷 晴子
(株)東芝
-
須黒 恭一
(株)東芝
-
宮下 桂
東芝
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