微細金属配線における抵抗率のサイズ効果予測のためのモンテカルロ・シミュレーション(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
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概要
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LSIの金属配線設計において、サイズ縮小に伴って配線の抵抗率が上昇するという"抵抗率のサイズ効果"が問題となっている.次世代デバイスにおける配線遅延等の性能評価を行う上で、配線抵抗を精度よく見積もることは必要不可欠であるが、そのためにはこのサイズ効果の高精度な予測が必須となる.本論文では、微細金属配線における抵抗率のサイズ効果を精度よく予測するための、モンテカルロ・シミュレーション方法を提案する.本手法は比較的少数のパラメータで微細Cu配線におけるサイズ効果の実測をよく再現すること、また、微細金属配線の抵抗率を精度よく予測するためには、形状効果が重要であることを示す.
- 2009-11-05
著者
-
青木 伸俊
(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
-
豊島 義明
(株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター
-
柴田 英毅
(株)東芝セミコンダクター社
-
柴田 英毅
株式会社東芝セミコンダクター社
-
柴田 英毅
(株)東芝 プロセス技術研究所
-
来栖 貴史
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
-
和田 真
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
-
松永 範昭
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
-
梶田 明広
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
-
谷本 弘吉
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
-
松永 範昭
東芝
-
青木 伸俊
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
-
青木 伸俊
マイクロエレクトロニクス研
-
青木 伸俊
(株)東芝soc開発センター
-
豊島 義明
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
青木 伸俊
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
松永 範昭
(株)東芝セミコンダクタ一社
-
谷本 弘吉
(株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター
-
松永 範昭
(株)東芝 セミコンダクター社
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