クォーターミクロン世代に向けての多層配線技術の課題と展望
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概要
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シリコンULSIの高集積化,高性能化を支えてきたのは比例縮小則(スケーリング則)に基づいた素子寸法の微細化の考え方の中でこれまでに行われてきた配線寸法の微細化の問題点を振り返る.次に,将来のクォーターミクロン世代で予想される配線抵抗や容量の増大に起因した配線RC遅延がデバイス性能に及ぼす影響について考察すると共に,配線遅延をデバイス性能の向上率に合わせて低減化するための新しいスケーリングシナリオを提案し配線性能向上技術の重要性を述べる.また,これと共に問題となる電流密度の増大に合わせた配線信頼性向上の考え方,更にはグローバル平たん化技術やセルフアライン技術の必要性についても論じる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-05-25
著者
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