SON-MOSFETの作製とULSIへの応用
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概要
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我々は、従来困難であったSON(Sihcon on Nothing)構造を容易に実現する手法として、シリコンの表面マイグレーションを利用した全く新しいESS(Empty Space in Silicon)技術を開発した。ここではESS技術を詳述するとともに、本技術を用いて形成したSON構造上にトランジスタ等の素子を試作し、SON構造の有効性を確認した結果を報告する。本技術は、従来のSOI技術では実現困難であった構造、例えばLSIの一部のみをSOI(SON)にしたような構造も容易に実現できることから、トレンチDRAM混載デバイスを初めとした、様々なシステムLSI用途向けの新しい基板構造として広く用いられることが期待される。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-06-24
著者
-
佐藤 力
株式会社 東芝セミコンダクター社
-
林 久貴
(株)東芝セミコンダクター社
-
井納 和美
(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
-
青木 伸俊
株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
新居 英明
株式会社東芝セミコンダクター社 SoC研究開発センター
-
井納 和美
株式会社東芝セミコンダクター社 SoC研究開発センター
-
新居 英明
(株)東芝セミコンダクタ社システムlsi第一事業部システムlsiデバイス技術開発部
-
佐藤 力
(株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター
-
平野 智之
株式会社 東芝セミコンダクター社
-
青木 伸俊
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
-
綱島 祥隆
株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
-
水島 一郎
株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
水島 一郎
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
佐藤 力
株式会社東芝セミコンダクター社
-
幡野 正之
株式会社東芝セミコンダクター社
-
竹中 圭一
株式会社東芝セミコンダクター社
-
林 久貴
株式会社東芝セミコンダクター社
-
石行 一貴
株式会社東芝セミコンダクター社
-
平野 智之
株式会社東芝セミコンダクター社
-
井田 和彦
株式会社東芝セミコンダクター社
-
大黒 達也
株式会社東芝セミコンダクター社
-
幡野 正之
株式会社 東芝セミコンダクター社
-
竹中 圭一
株式会社 東芝セミコンダクター社
-
石行 一貴
株式会社 東芝セミコンダクター社
-
井田 和彦
株式会社 東芝セミコンダクター社
-
綱島 祥隆
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
大黒 達也
(株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター
-
水島 一郎
東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
-
青木 伸俊
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
大黒 達也
東芝セミコンダクター社:広島大学
-
水島 一郎
東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ
-
井納 和美
株式会社東芝
-
大黒 達也
株式会社東芝
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