高アスペクト比ホール加工におけるSiO_2選択エッチング機構
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概要
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- 1996-05-30
著者
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林 久貴
(株)東芝セミコンダクター社
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林 久貴
技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)プラズマ技術研究室
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関根 誠
(株)東芝 マイクロエレクトロニクス技術研究所
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関根 誠
技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)プラズマ技術研究室
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