半導体プラズマエッチング技術の研究展開 : ASET 成果報告と技術展望

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 応用物理学会の論文
• 2001-04-10

著者

• 関根 誠

  名大エコトピア

• 関根 誠

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)プラズマ技術研究室

関連論文

• プラズマエッチング技術
• 高アスペクト比コンタクトホール加工における SiO_2/Si_3N_4 選択エッチング特性
• 3. 親ガスおよびラジカルの気相解離過程 : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展
• 高アスペクト比ホール加工におけるSiO_2選択エッチング機構
• 1.7プラズマエッチング分科内総合講演 : プラズマエッチングの限界と展開
• プラズマエッチングのデバイス応用とその基礎
• 地球温暖化PFCガス対策の進捗と展望 : CVDクリーニングRITE Pj成果展開と産学官連携による実用化の展望
• プラズマプロセス・装置はどこまで制御できるか?
• 半導体プラズマエッチング技術の研究展開 : ASET 成果報告と技術展望

スポンサーリンク