林 久貴 | 技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)プラズマ技術研究室
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
林 久貴
技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)プラズマ技術研究室
-
関根 誠
技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)プラズマ技術研究室
-
林 久貴
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室
-
林 久貴
(株)東芝セミコンダクター社
-
井上 正巳
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室
-
栗原 一彰
東芝ulsi研
-
関根 誠
(株)東芝 マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
辰巳 哲也
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室
-
中川 秀夫
パナソニック
-
辰巳 哲也
ソニー
-
沖川 満
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室
-
板橋 直志
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室
-
中川 秀夫
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室
-
栗原 一彰
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
-
堀岡 啓治
東芝ULSI研
-
林 久貴
東芝ULSI研
-
関根 誠
東芝ULSI研
著作論文
- 超先端電子技術開発機構におけるレーザー計測法によるエッチングプラズマ中の解離化学種解析
- 高アスペクト比酸化膜エッチング技術
- プラズマエッチング技術
- 高アスペクト比コンタクトホール加工における SiO_2/Si_3N_4 選択エッチング特性
- 3. 親ガスおよびラジカルの気相解離過程 : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展
- 高アスペクト比ホール加工におけるSiO_2選択エッチング機構