栗原 一彰 | (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

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概要

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関連著者

• 栗原 一彰

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 中崎 靖

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 林 久貴

  (株)東芝セミコンダクター社

• 林 久貴

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)プラズマ技術研究室

• 中崎 靖

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 中崎 靖

  (株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー

• 栗原 一彰

  東芝ulsi研

• 関根 誠

  (株)東芝 マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 関根 誠

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)プラズマ技術研究室

• 中崎 靖

  (株)東芝

著作論文

• 高アスペクト比コンタクトホール加工における SiO_2/Si_3N_4 選択エッチング特性
• 低誘電率膜中の炭素種に対するプラズマプロセスの影響
• 低誘電率膜中の炭素種に対するプラズマプロセスの影響 (特集 プラズマが誘起する表面反応)

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