低誘電率膜中の炭素種に対するプラズマプロセスの影響
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概要
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- 2010-03-10
著者
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中崎 靖
東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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中崎 靖
(株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー
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栗原 一彰
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
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中崎 靖
(株)東芝
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中崎 靖
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
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