高アスペクト比酸化膜エッチング技術
スポンサーリンク
概要
著者
-
林 久貴
技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)プラズマ技術研究室
-
林 久貴
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室
-
井上 正巳
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室
関連論文
- 超先端電子技術開発機構におけるレーザー計測法によるエッチングプラズマ中の解離化学種解析
- 高アスペクト比酸化膜エッチング技術
- プラズマエッチング技術
- 高アスペクト比コンタクトホール加工における SiO_2/Si_3N_4 選択エッチング特性
- 3. 親ガスおよびラジカルの気相解離過程 : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展
- 高アスペクト比ホール加工におけるSiO_2選択エッチング機構