大黒 達也 | 株式会社東芝
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概要
関連著者
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大黒 達也
株式会社東芝
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大黒 達也
東芝セミコンダクター社:広島大学
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佐藤 力
株式会社 東芝セミコンダクター社
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林 久貴
(株)東芝セミコンダクター社
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(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
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株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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新居 英明
株式会社東芝セミコンダクター社 SoC研究開発センター
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井納 和美
株式会社東芝セミコンダクター社 SoC研究開発センター
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(株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター
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株式会社 東芝セミコンダクター社
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株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社
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株式会社東芝セミコンダクター社
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株式会社東芝セミコンダクター社
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大黒 達也
株式会社東芝セミコンダクター社
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川中 繁
株式会社東芝セミコンダクター&ストレージ社
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豊島 義明
株式会社東芝セミコンダクター&ストレージ社
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宮田 俊敬
株式会社東芝セミコンダクター&ストレージ社
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外園 明
株式会社東芝セミコンダクター&ストレージ社
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外園 明
株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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宮田 俊敬
株式会社東芝研究開発センター
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東 悠介
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百々 信幸
株式会社東芝
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山下 浩史
株式会社東芝
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佐々木 広器
株式会社東芝
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吉田 毅
株式会社東芝
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大黒 達也
株式会社東芝セミコンダクター&ストレージ社
著作論文
- SON-MOSFETの作製とULSIへの応用
- SON-MOSFETの作製とULSIへの応用
- 転送ゲート負バイアス動作における黒沈み不良の解析(イメージセンサ,カメラ信号処理,画像評価関連技術,及び2013IISWとVLSIシンポジウムからの発表報告)
- マルチ・ゲート酸化膜を備え自己整合プロセスを用いたDual Work Function (DWF) MOSFETsの低消費RFアプリケーションに対するスケーリングの方針(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
- マルチ・ゲート酸化膜を備え自己整合プロセスを用いたDual Work Function (DWF) MOSFETsの低消費RFアプリケーションに対するスケーリングの方針(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)