来栖 貴史 | (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
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概要
関連著者
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来栖 貴史
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
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来栖 貴史
筑波大学物理工学系
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柴田 英毅
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(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
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(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
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(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
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東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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松永 範昭
(株)東芝セミコンダクタ一社
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谷本 弘吉
(株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター
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松永 範昭
(株)東芝 セミコンダクター社
著作論文
- 微細金属配線における抵抗率のサイズ効果予測のためのモンテカルロ・シミュレーション(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 不純物に起因するポテンシャル揺らぎの電子移動度への影響
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