関根 克行 | 東芝セミコンダクター社
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概要
関連著者
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関根 克行
東芝 セミコンダクター社
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関根 克行
東芝セミコンダクター社
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鈴木 正道
(株)東芝 研究開発センター
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後藤 正和
セミコンダクター社半導体研究開発センター株式会社東芝
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上牟田 雄一
半導体MIRAI-ASET
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川中 繁
セミコンダクター社半導体研究開発センター株式会社東芝
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東 篤志
東芝セミコンダクター社
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小山 正人
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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土屋 義規
(株)東芝 研究開発センター
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後藤 正和
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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川中 繁
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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小山 正人
(株)東芝研究開発センター
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中嶋 一明
東芝
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中嶋 一明
東芝 セミコンダクター社
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小池 正浩
(株)東芝研究開発センター
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上牟田 雄一
(株)東芝研究開発センター
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長友 浩二
(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
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長友 浩二
東芝
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東 篤志
東芝
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辰村 光介
(株)東芝研究開発センター
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市原 玲華
(株)東芝研究開発センター
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辰村 光介
研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー株式会社東芝
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長友 浩二
東芝セミコンダクター社
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中嶋 一明
東芝セミコンダクター社
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小山 正人
東芝 研究開発センター
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後藤 正和
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ
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市原 玲華
(株)東芝 研究開発センター
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辰村 光介
(株)東芝 研究開発センター
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小山 正人
(株)東芝
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犬宮 誠治
(株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター
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犬宮 誠治
東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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綱島 祥隆
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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綱島 祥隆
東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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佐藤 基之
東芝 セミコンダクター社
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犬宮 誠治
東芝
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江口 和弘
半導体理工学センター(STARC)
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金子 明生
東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ
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佐藤 基之
東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発推進センター
-
江口 和弘
東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発推進センター
著作論文
- 32nm世代以降のCMOS向けメタルゲート/High-k絶縁膜技術の導入によるMOSFET特性の変化(デバイス,VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- 32nm世代以降のCMOS向けメタルゲート/High-k絶縁膜技術の導入によるMOSFET特性の変化(デバイス, VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- プラズマ窒化を用いた低消費電力CMOS用高移動度・低リーク電流Poly-Si/HfSiONゲートスタックの形成(IEDM特集:先端CMOSデバイス・プロセス技術)