佐藤 基之 | 東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発推進センター

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概要

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• 犬宮 誠治

  (株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター

• 犬宮 誠治

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

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• 佐藤 基之

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• 佐藤 基之

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著作論文

• プラズマ窒化を用いた低消費電力CMOS用高移動度・低リーク電流Poly-Si/HfSiONゲートスタックの形成(IEDM特集:先端CMOSデバイス・プロセス技術)

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