綱島 祥隆 | 東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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概要
関連著者
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綱島 祥隆
東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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犬宮 誠治
(株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター
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犬宮 誠治
東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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綱島 祥隆
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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佐藤 基之
東芝 セミコンダクター社
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関根 克行
東芝 セミコンダクター社
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犬宮 誠治
東芝
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関根 克行
東芝セミコンダクター社
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江口 和弘
半導体理工学センター(STARC)
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金子 明生
東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ
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佐藤 基之
東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発推進センター
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江口 和弘
東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発推進センター
著作論文
- プラズマ窒化を用いた低消費電力CMOS用高移動度・低リーク電流Poly-Si/HfSiONゲートスタックの形成(IEDM特集:先端CMOSデバイス・プロセス技術)
- [Invited]サブ50nm CMOS 以降のフロントエンドプロセス技術(AWAD2003 : 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショツプ)
- [Invited]サブ50nm CMOS以降のフロントエンドプロセス技術(AWAD2003(先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ))