市原 玲華 | (株)東芝 研究開発センター
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概要
関連著者
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市原 玲華
(株)東芝研究開発センター
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市原 玲華
(株)東芝 研究開発センター
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後藤 正和
セミコンダクター社半導体研究開発センター株式会社東芝
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川中 繁
セミコンダクター社半導体研究開発センター株式会社東芝
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小山 正人
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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小山 正人
(株)東芝研究開発センター
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中嶋 一明
東芝
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中嶋 一明
東芝 セミコンダクター社
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長友 浩二
(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
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長友 浩二
東芝
著作論文
- 極微細TaC_x/HfSiONデバイスの性能および歪み効果に対するTaC_x組成の影響(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
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- 32nm世代以降のCMOS向けメタルゲート/High-k絶縁膜技術の導入によるMOSFET特性の変化(デバイス,VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
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- 硬X線光電子分光法を用いた半導体デバイスの分析