竹野 史郎 | (株)東芝研究開発センター環境技術研究所

スポンサーリンク

概要

• 竹野 史郎の詳細を見る
• 同名の論文著者
• (株)東芝研究開発センター環境技術研究所の論文著者

関連著者

• 竹野 史郎

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 竹野 史郎

  (株)東芝研究開発センター環境技術研究所

• 竹野 史郎

  (株)東芝 研究開発センター

• 小池 三夫

  (株)東芝

• 小池 三夫

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 山崎 貴司

  富士通研究所

• 山崎 貴司

  東理大理

• 上杉 文彦

  東芝ナノアナリシス(株)

• 鈴木 正道

  (株)東芝 研究開発センター

• 上牟田 雄一

  半導体MIRAI-ASET

• 安武 信昭

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 外園 明

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 張 利

  (株)東芝研究開発センター

• 青木 伸俊

  マイクロエレクトロニクス研

• 吉木 昌彦

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 富田 充裕

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 福島 伸

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 水島 一郎

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社

• 吉見 信

  (株)東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 寺内 衛

  東芝研究開発センター先端半導体デバイス研究所

• 寺内 衛

  (株)東芝 研究開発センター 先端半導体デバイス研究所

• 阿部 和秀

  (株)東芝 研究開発センター

• 土屋 義規

  (株)東芝 研究開発センター

• 楠 直樹

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 齋藤 真澄

  東芝研究開発センター

• 木下 敦寛

  東芝研究開発センター

• 古賀 淳二

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 西山 彰

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センター

• 小池 正浩

  (株)東芝研究開発センター

• 井野 恒洋

  (株)東芝研究開発センター

• 上牟田 雄一

  (株)東芝研究開発センター

• 西山 彰

  (株)東芝研究開発センター

• 有隅 修

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 市原 玲華

  (株)東芝研究開発センター

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 木下 敦寛

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 青木 伸俊

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 西山 彰

  東芝 研究開発センター

• 小山 正人

  東芝 研究開発センター

• 張 利

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 富田 充裕

  株式会社東芝研究開発センター

• 齋藤 真司

  (株)東芝 研究開発センター

• 安武 信昭

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 福島 伸

  東芝 研開セ

• 吉見 信

  SOITEC Asia

• 松澤 一也

  東芝 研究開発センター

• 鈴木 健

  (株)東芝 ソフトウェアプロダクト部

• 田中 洋毅

  (株)東芝研究開発センター

• 松澤 一也

  (株)東芝 ULSI研究所

• 執行 直之

  (株)東芝 ULSI研究所

• 外園 明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 齋藤 真澄

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 市原 玲華

  (株)東芝 研究開発センター

• 吉木 昌彦

  (株)東芝 研究開発センター

• 有隅 修

  (株)東芝 Ulsi研究所

• 福島 伸

  (株)東芝

• 齋藤 真澄

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 出羽 光明

  (株)東芝

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 阿部 和秀

  東芝・総合研究所

• 吉見 信

  東芝 Soc研開セ

• 井野 恒洋

  東芝

• Abe Kazuhide

  Material And Devices Research Laboratories R&d Center Toshiba Corporation

• Abe Kazuhide

  Metals And Ceramics Laboratory Toshiba R&amo;d Center Toshiba Corporation

• Abe Kazuhide

  Research And Development Center Toshiba Corporation

• Abe Kazuhide

  Materials And Devices Research Laboratories R&d Center Toshiba Corporation

• 阿部 和秀

  (株)東芝研究開発センター Lsi基盤技術ラボラトリー

• 阿部 和秀

  (株)東芝

• 小山 正人

  (株)東芝

• 鈴木 健

  (株)東芝研究開発センター環境技術研究所

• 田中 洋毅

  (株)東芝 研究開発センター

• 西山 彰

  (株)東芝 研究開発センター

もっと見る 閉じる

著作論文

• 走査型拡がり抵抗顕微鏡(SSRM)を用いたソース・ドレインにおける高分解能イメージング及び高精度プロービング解析(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• 硬X線光電子分光法を用いた半導体デバイスの分析
• 絶縁膜の結合状態、誘電特性評価法としてのTEM-EELSのポテンシャル(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• SiGeソース構造によるSOI MOSFET基板浮遊効果の抑制 : SiGe構造パラメータ依存性
• 24aYK-7 CBED法を用いたデバイス中の歪分布測定(24aYK X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21aYM-10 デバイス中の不鮮明なHOLZ線の解析(X線・粒子線(中性子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• Ba_Sr_TiO_3/SrRuO_3キャパシタの膜微細構造
• 分析電子顕微鏡による半導体材料の評価

スポンサーリンク