Ba_<0.5>Sr_<0.5>TiO_3/SrRuO_3キャパシタの膜微細構造
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概要
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- 1996-12-05
著者
-
福島 伸
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
阿部 和秀
(株)東芝 研究開発センター
-
竹野 史郎
(株)東芝 研究開発センター
-
小池 三夫
(株)東芝
-
福島 伸
東芝 研開セ
-
小池 三夫
東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
竹野 史郎
東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
福島 伸
(株)東芝
-
竹野 史郎
(株)東芝研究開発センター環境技術研究所
-
出羽 光明
(株)東芝
-
阿部 和秀
東芝・総合研究所
-
Abe Kazuhide
Material And Devices Research Laboratories R&d Center Toshiba Corporation
-
Abe Kazuhide
Metals And Ceramics Laboratory Toshiba R&amo;d Center Toshiba Corporation
-
Abe Kazuhide
Research And Development Center Toshiba Corporation
-
Abe Kazuhide
Materials And Devices Research Laboratories R&d Center Toshiba Corporation
-
阿部 和秀
(株)東芝研究開発センター Lsi基盤技術ラボラトリー
-
阿部 和秀
(株)東芝
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