(Ba,Sr)TiO_3膜のエピタキシャル成長と強誘電特性
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概要
著者
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川久保 隆
(株)東芝総合研究所
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川久保 隆
(株)東芝材料デバイス研究所
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阿部 和秀
(株)東芝 研究開発センター
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小松 周一
(株)東芝総合研究所
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小松 周一
(株)東芝 研究開発センター
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梁瀬 直子
(株)東芝材料デバイス研究所
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佐野 賢也
(株)東芝材料デバイス研究所
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阿部 和秀
東芝・総合研究所
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Abe Kazuhide
Material And Devices Research Laboratories R&d Center Toshiba Corporation
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Abe Kazuhide
Metals And Ceramics Laboratory Toshiba R&amo;d Center Toshiba Corporation
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Abe Kazuhide
Research And Development Center Toshiba Corporation
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Abe Kazuhide
Materials And Devices Research Laboratories R&d Center Toshiba Corporation
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阿部 和秀
(株)東芝研究開発センター Lsi基盤技術ラボラトリー
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阿部 和秀
(株)東芝
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