川久保 隆 | (株)東芝総合研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
川久保 隆
(株)東芝総合研究所
-
川久保 隆
(株)東芝材料デバイス研究所
-
後藤 昭
(株) 東芝総合研究所
-
後藤 昭
(株)東芝総合研究所
-
菱田 護
東芝総合研究所
-
金子 正
(株)東芝原子力事業部
-
川久保 隆
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
-
阿部 和秀
(株)東芝 研究開発センター
-
平山 秀雄
(株)東芝総合研究所
-
川久保 隆
(株) 東芝総合研究所
-
川久保 隆
東芝総合研究所
-
阿部 和秀
東芝・総合研究所
-
Abe Kazuhide
Material And Devices Research Laboratories R&d Center Toshiba Corporation
-
Abe Kazuhide
Metals And Ceramics Laboratory Toshiba R&amo;d Center Toshiba Corporation
-
Abe Kazuhide
Research And Development Center Toshiba Corporation
-
Abe Kazuhide
Materials And Devices Research Laboratories R&d Center Toshiba Corporation
-
阿部 和秀
(株)東芝研究開発センター Lsi基盤技術ラボラトリー
-
阿部 和秀
(株)東芝
-
川久保 隆
東芝リサーチ・コンサルティング株式会社
-
川久保 隆
(株)東芝研究開発センター
-
清水 達雄
(株)東芝研究開発センター
-
西垣 亨彦
(株)東芝 研究開発センター
-
長野 利彦
(株)東芝 研究開発センター
-
板谷 和彦
(株)東芝 研究開発センター
-
米屋 勝利
(株) 東芝総合研究所
-
小松 周一
(株)東芝総合研究所
-
小松 周一
(株)東芝 研究開発センター
-
梁瀬 直子
(株)東芝材料デバイス研究所
-
佐野 賢也
(株)東芝材料デバイス研究所
-
平山 秀雄
(株) 東芝総合研究所
-
金子 正
(株) 東芝原子力事業本部
-
竹田 信之
東芝総合研究所
-
中川 雄二
東芝総合研究所
-
平山 秀雄
(株)東芝 液晶開発センター
-
清水 達雄
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
著作論文
- 圧電駆動型RF-MEMS可変キャパシタの電気特性
- (Ba,Sr)TiO_3膜のエピタキシャル成長と強誘電特性
- 炭化ケイ素および安定化ジルコニアの高温水中における腐食挙動 : (セラミック材料小特集)
- 290℃純水中におけるセラミックスの腐食挙動
- (Ba, Sr) TiO_3膜の物理 : 第一原理計算と実験
- 原子,分子の運動と薄膜のミクロ設計
- 常圧焼結窒化ケイ素の常温における繰返し疲労
- FeRAMの現状と将来技術
- 予き裂を導入したセラミックスの常温における静疲労と繰返し疲労
- セラミックスの常温における繰返し疲労挙動(粉体小特集)
- 326 窒化ケイ素の高温における亀裂成長挙動(セラミックスII)
- 235 常圧焼結窒化ケイ素の疲労挙動(セラミックスII)
- 115 Alloy X-750の高温純水中腐食疲労き裂進展挙動(腐食疲労)
- J積分による高温水中の応力腐食割れ伝播速度の解析
- 討 26 SUS 304 鋼の高温純水中における腐食疲労伝播挙動(V 腐食疲労, 第 98 回講演大会討論会講演概要)