清水 達雄 | (株)東芝研究開発センター

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概要

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関連著者

• 清水 達雄

  (株)東芝研究開発センター

• 塚田 捷

  東京大学理学部

• 塚田 捷

  東大・理

• 渡辺 聡

  新技術事業団青野原子制御表面プロジェクト

• 清水 達雄

  東大・理

• 小林 功佳

  お茶大理

• 塚田 捷

  東京大学理学部物理学科

• 清水 達雄

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 鈴木 正道

  (株)東芝 研究開発センター

• 松下 大介

  (株)東芝研究開発センター

• 川久保 隆

  (株)東芝総合研究所

• 川久保 隆

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 川久保 隆

  (株)東芝材料デバイス研究所

• 山口 豪

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 塚田 捷

  東大理

• 松下 大介

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 高島 章

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 西川 幸江

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 吉木 昌彦

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 富田 充裕

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 福島 伸

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 内山 登志弘

  Matsushita Research Institute Tokyo, Inc.

• 清水 達雄

  株式会社東芝研究開発センター

• 小林 功佳

  東大・理

• 小林 功佳

  東大理

• 清水 達雄

  東大理

• 菊池 章仁

  東大理

• 古池 達彦

  東大理

• 中村 正人

  新技術事業団

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センター

• 小山 正人

  東芝 研究開発センター

• 富田 充裕

  株式会社東芝研究開発センター

• 福島 伸

  東芝 研開セ

• 吉木 昌彦

  (株)東芝 研究開発センター

• 福島 伸

  (株)東芝

• 山口 豪

  (株)東芝 研究開発センター

• 高島 章

  東芝

• 内山 登志弘

  松下技研(株)

• 小山 正人

  (株)東芝

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著作論文

• LaAlO/Si基板界面への1原子層SrSi_2挿入による界面電気特性改善効果の実証(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
• 金属表面と吸着物質との相互作用
• 吸着系における走査トンネル顕微鏡/分光の理論
• 26a-Z-4 銀(110)表面の酸素吸着(理論的研究)
• 27p-E-9 走査トンネル顕微鏡からの発光の微視的理論
• 5a-PS-11 STM探針・表面間の電子移動とAFMのシミュレーション
• (Ba, Sr) TiO_3膜の物理 : 第一原理計算と実験

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