高島 章 | 東芝
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概要
関連著者
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高島 章
東芝
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鈴木 正道
(株)東芝 研究開発センター
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松下 大介
(株)東芝研究開発センター
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清水 達雄
(株)東芝研究開発センター
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山口 豪
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
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手塚 勉
MIRAI-ASET
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松下 大介
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
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高島 章
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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西川 幸江
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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吉木 昌彦
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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富田 充裕
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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小山 正人
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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福島 伸
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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小山 正人
(株)東芝研究開発センター
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小山 正人
東芝 研究開発センター
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富田 充裕
株式会社東芝研究開発センター
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福島 伸
東芝 研開セ
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吉木 昌彦
(株)東芝 研究開発センター
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福島 伸
(株)東芝
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山口 豪
(株)東芝 研究開発センター
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清水 達雄
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
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鎌田 善己
MIRAI-東芝
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小山 正人
(株)東芝
著作論文
- Ge MOSデバイスの熱安定性 : Ge oxygen[GeO(g)]脱ガスにおけるGe monoxide[GeO(II)]の役割(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- LaAlO/Si基板界面への1原子層SrSi_2挿入による界面電気特性改善効果の実証(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)