木下 敦寛 | 東芝研究開発センター

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概要

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関連著者

• 木下 敦寛

  東芝研究開発センター

• 木下 敦寛

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 稲葉 聡

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 楠 直樹

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 齋藤 真澄

  東芝研究開発センター

• 齋藤 真澄

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 齋藤 真澄

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 後藤 正和

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 後藤 正和

  セミコンダクター社半導体研究開発センター株式会社東芝

• 後藤 正和

  徳島大学外科

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 川中 繁

  セミコンダクター社半導体研究開発センター株式会社東芝

• 張 利

  (株)東芝研究開発センター

• 青木 伸俊

  マイクロエレクトロニクス研

• 水島 一郎

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠治

  (株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター

• 後藤 正和

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 川中 繁

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 犬宮 誠治

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 辰村 光介

  東芝研究開発センター

• 古賀 淳二

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠治

  東芝

• 辰村 光介

  研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー株式会社東芝

• 青木 伸俊

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 張 利

  東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 後藤 正和

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ

• 竹野 史郎

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 窪田 壮男

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 石内 秀美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 松尾 浩司

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 安武 信昭

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 外園 明

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 岡野 王俊

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 大村 光弘

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 石内 秀美

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社

• 金村 貴永

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 金子 明生

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 八木下 淳史

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 矢橋 勝典

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 窪田 壮男

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 大村 光広

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 岡野 王俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 川崎 博久

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 泉田 貴士

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 金村 貴永

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 稲葉 聡

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 石丸 一成

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 豊島 義明

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 須黒 恭一

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 江口 和弘

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 綱島 祥隆

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 川崎 博久

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 江口 和弘

  半導体理工学センター(STARC)

• 小池 三夫

  (株)東芝

• 安武 信昭

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 金子 明生

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 外園 明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 小池 三夫

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 青木 伸俊

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ

• 金村 貴永

  半導体研究開発センター:株式会社東芝

• 金村 貴永

  東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 竹野 史郎

  (株)東芝研究開発センター環境技術研究所

• 八木下 淳史

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 泉田 貴士

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 原 啓良

  東芝セミコンダクター社大分工場品質管理部

• 橋本 庸幸

  東芝セミコンダクター社大分工場品質管理部

• 早瀬 洋平

  東芝セミコンダクター社大分工場品質管理部

• 栗原 美智男

  東芝セミコンダクター社大分工場品質管理部

• 萩島 大輔

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 石川 貴之

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

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著作論文

• 微細High-k/メタルゲートデバイスにおけるキャリア移動度とT_スケーリングの関係および22nmノードに向けたデバイス設計ガイドライン(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)
• 微細High-k/メタルゲートデバイスにおけるキャリア移動度とT_スケーリングの関係および22nmノードに向けたデバイス設計ガイドライン(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)
• 不純物偏析Schottkyソース/ドレインを用いた高性能FinFET(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• 走査型拡がり抵抗顕微鏡(SSRM)を用いたソース・ドレインにおける高分解能イメージング及び高精度プロービング解析(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• 高精度拡がり抵抗顕微鏡(SSRM)を用いたSRAM不良ビットの直接観察及びメカニズム解明(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))

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