上殿 明良 | 筑波大数理
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概要
関連著者
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上殿 明良
筑波大数理
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上殿 明良
筑波大学電子物理工学系
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上殿 明良
筑波大学・物理工学系
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谷川 庄一郎
筑波大物質工学
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鈴木 良一
産総研
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谷川 庄一郎
筑波大物理工
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上殿 明良
筑波大学物理工学科
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谷川 庄一郎
筑波大学物理工学科
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谷川 庄一郎
筑波大物質工
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大島 永康
産総研
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鈴木 良一
産業技術総合研究所
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上殿 明良
筑波大物質
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大平 俊行
産総研
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大平 俊行
産業総合技術研究所計測フロンティア研究部門
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大島 永康
産業技術総合研究所
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木野村 淳
産総研
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鈴木 良一
筑波大学物質工学系
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林崎 規託
東工大原子炉研
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上殿 明良
筑波大学数理物質科学研究科
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尾沼 猛儀
東北大学多元物質科学研究所
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秩父 重英
東北大学多元物質科学研究所
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藤浪 真紀
千葉大院工
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大平 俊行
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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鈴木 良一
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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知京 豊裕
物材機構
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上殿 明良
筑波大物理工
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生形 友宏
筑波大物理工
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知京 豊裕
(独)物質・材料研究機構
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黒田 隆之助
産総研
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羽豆 耕治
東北大学多元物質科学研究所
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宗田 孝之
早稲田大学理工学術院
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大島 永康
東大 大学院
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知京 豊裕
金属材料技術研究所
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宗田 孝之
早稲田大学
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山部 紀久夫
筑波大学
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上殿 明良
東京大学先端科学技術研究センタ-
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窪田 翔二
筑波大数理
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渡邉 宏理
筑波大数理
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鳴海 貴允
筑波大数理
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白石 賢二
筑波大学数理物質科学研究科
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山部 紀久夫
筑波大学数理物質科学研究科
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知京 豊裕
物質材料研究機構(NIMS)
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鳥居 和功
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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樋口 恵一
筑波大学電子・物理工学専攻
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後藤 正和
筑波大学電子・物理工学専攻
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村松 誠
筑波大物理工
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渡辺 匡人
NEC
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鈴木 良一
電総研
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大平 俊行
電総研
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林崎 規託
東京工業大学
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黒田 隆之助
産業技術総合研究所
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伊藤 和彦
筑波大物質工
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渡辺 匡人
学習院大学理学部
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上殿 明良
東大工
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鈴木 良一
筑波大物質
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鳥居 和功
日立製作所中央研究所
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柳下 宏
産総研
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山田 啓作
筑波大学数理物質科学研究科
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氏平 祐輔
東京大学先端科学技術研究センター
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白石 賢二
筑波大学
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依田 修
日本原子力研究所高崎研究所
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依田 修
日本原子力研究所関西研究所
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上殿 明良
筑波大物工
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谷川 庄一郎
筑波大物工
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小田 克郎
東大生研
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鈴木 茂
東北大学多元物質科学研究所
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打越 雅仁
東北大多元研
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鈴木 茂
東北大多元研
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石橋 章司
産業技術総合研究所計算科学研究部門
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大島 永康
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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岡 壽崇
千葉大院工
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藤浪 真紀
干葉大院工
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大塚 崇
筑波大学数理物質科学研究科
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伊東 健一
筑波大学数理物質科学研究科
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宮崎 誠一
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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梅澤 直人
物質材料研究機構(NIMS)
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犬宮 誠治
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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神山 聡
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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赤坂 泰志
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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奈良 安雄
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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山田 啓作
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
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秩父 重英
筑波大院電子物理工&21COE
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鈴木 智士
筑波大院電子物理工&21COE
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野坂 大樹
筑波大院電子物理工&21COE
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杉山 睦
筑波大院電子物理工&21COE
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尾沼 猛儀
科技機構創造中村P
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上殿 明良
筑波大院電子物理工&21COE
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後藤 正和
筑波大学数理物質科学研究科
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樋口 恵一
筑波大学数理物質科学研究科
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池内 恒平
筑波大学数理物質科学研究科
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ABUDUL Hamid
物質材料研究機構(NIMS)
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山田 啓作
物質材料研究機構(NIMS)
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北島 洋
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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三橋 理一郎
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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堀内 淳
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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有門 経敏
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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蓮沼 隆
筑波大学電子・物理工学専攻
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山部 紀久夫
筑波大学電子・物理工学専攻
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市橋 鋭也
NEC
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三角 智久
電総研
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高須 誠一
NEC機械
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谷野 浩敏
筑波大物質工
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中野 明彦
STARC
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山本 秀和
STARC
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森下 憲雄
原研高崎研
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伊藤 久義
原研高崎研
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藤井 知
住友電工ダイヤSAWデバイス開発室
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鹿田 真一
住友電工ダイヤSAWデバイス開発室
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渡辺 匡人
NEC基礎研究所
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市橋 鋭也
NEC基礎研究所
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森 和照
筑波大学物質工学系
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中居 克彦
新日本製鐡(株)先端技術研究所半導体基盤研究部
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知京 豊裕
物質・材料研究機構 半導体材料センター
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柳下 明
高エ研
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柳下 明
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所放射光科学研究施設
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井上 尚也
大阪府立大学工学部情報工学科
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林 喜宏
NECシステムデバイス研究所
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堀内 淳
(株)半導体先端テクノロジーズ
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吉丸 正樹
半導体理工学研究センター
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池田 光男
高エネルギー加速器研究機構
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栗原 俊一
高エ研
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七尾 進
東大生研
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林 喜宏
NECシリコンシステム研究所
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赤坂 泰志
東京エレクトロン株式会社
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奈良 安雄
(株)富士通研究所 Ulsi研究部門
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野村 昌治
高エネルギー物理学研究所
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吉田 博行
京大原子炉
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設楽 哲夫
高エネルギー加速器研究機構
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設楽 哲夫
高エ研
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伊藤 久義
原子力機構
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鈴木 敬愛
東大生研
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鈴木 良一
電子技術総合研究所
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森下 憲雄
原子力研究開発機構
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大島 武
原子力研究開発機構
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杉山 睦
筑波大院電子物理工&21coe:(現)東京理科大学理工学部電気電子情報工学科
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野坂 大樹
筑波大院電子物理工&21coe
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鈴木 智士
筑波大院電子物理工&21coe
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廣瀬 幸範
(株)ルネサステクノロジ
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栗原 俊一
高エネルギー加速器研究機構
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榎本 収志
高エネルギー加速器研究機構
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大越 隆夫
高エネルギー加速器研究機構
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大澤 哲
高エネルギー加速器研究機構
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小川 雄二郎
高エネルギー加速器研究機構
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柿原 和久
高エネルギー加速器研究機構
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白川 明広
高エネルギー加速器研究機構
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中島 啓光
高エネルギー加速器研究機構
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古川 和郎
高エネルギー加速器研究機構
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本間 博幸
高エネルギー加速器研究機構
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佐波 俊哉
高エネルギー加速器研究機構
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塩谷 亘弘
高エネルギー加速器研究機構
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柳下 明
高エネルギー加速器研究機構 物質構造科学研究所
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林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
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前川 和義
(株)ルネサステクノロジ
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本田 和仁
(株)ルネサステクノロジ
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廣瀬 幸範
ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部
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本田 和仁
ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部
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前川 和義
ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部
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宮崎 博史
ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部
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辻 幸一
大阪市立大学大学院工学研究科化学生物系専攻
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大島 永康
産業技術総合研 計測フロンティア研究部門
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三角 智久
産総研
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藤井 知
筑波大物質工
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氏平 祐輔
東大工
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辻 幸一
アントワープ大学
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伊藤 久義
日本原子力研究所高崎研究所
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伊藤 賢志
産総研企画本部
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伊藤 久義
原研高崎
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前川 和義
ルネサス テクノロジ
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蓮沼 隆
筑波大学大学院数理物質科学研究科
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河野 孝央
筑波大学アイソトープセンター
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鹿田 真一
住友電気工業(株)itコンポーネント事業部
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柿原 和久
高エネルギー物理学研究所
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林 喜宏
マイクロエレクトロニクス研究所
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林 喜宏
日本電気株式会社
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北島 洋
(株)半導体先端テクノロジーズ
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有門 経敏
(株)半導体先端テクノロジーズ
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大澤 哲
高エネルギー加速器研究機構加速器研究施設
-
設楽 哲夫
物質構造科学研究所
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榎本 収志
KEK加速器
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梅澤 直人
南カリフォルニア大
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綿打 敏司
東京大学先端科学技術研究センター
-
藤井 知
住友電気工業(株)ITコンポーネント事業部
-
佐波 俊哉
高エネルギー加速器研究機構放射線科学センター
-
三橋 理一郎
(株)半導体先端テクノロジーズ
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鈴木 良一
筑波大物工
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中村 友二
半導体理工学センター(starc)
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犬宮 誠治
(株)半導体先端テクノロジーズ
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松岡 是治
名城大理工
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寺門 信悟
筑波大物質
-
岩瀬 吉倫
筑波大物質
-
野村 昌治
高エネルギー加速器研究機構 放射光科学研究施設
-
依田 修
原研高崎
-
井上 尚也
半導体理工学センター(STARC)
-
林 喜宏
半導体理工学センター(STARC)
-
江口 和弘
半導体理工学センター(STARC)
-
廣瀬 幸範
半導体理工学センター(STARC)
-
大島 永康
産業総合技術研究所計測フロンティア研究部門
-
鈴木 良一
産業総合技術研究所計測フロンティア研究部門
-
河野 孝央
アイソトープセンター
-
大沢 哲
高エネルギー加速器研究機構加速器研究施設
著作論文
- 20aHT-7 陽電子プローブマイクロアナライザーによる延伸鉄試料の欠陥評価(20aHT 領域10 格子欠陥・ナノ構造(水素,ナノ粒子,金属),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 陽電子消滅による窒化物光半導体の点欠陥の評価(窒化物半導体結晶中の欠陥)
- 27aRE-7 陽電子プローブマイクロアナライザーを用いた高分子中の陽電子寿命測定(27aRE X線・粒子線(陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
- 23pVE-10 陽電子プローブマイクロアナライザーによる欠陥分布の観察(23pVE 格子欠陥・ナノ構造(光物性・微粒子・水素・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
- 低速陽電子ビームを用いたhigh-kゲート絶縁膜の空隙の評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 18aA07 AlGaN/GaN超格子挿入によるMOVPE成長立方晶GaN中の欠陥密度低減(立方晶GaN結晶成長を考える,ナノ・エピシンポジウム,第35回結晶成長国内会議)
- 低速陽電子ビームを用いた high-κ 膜の空隙評価
- 研究紹介 陽電子による先端半導体材料の評価
- HfAlOxゲート絶縁膜をもつMOSキャパシタの過渡的電気特性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 27pYC-9 低速陽電子によるSi基板の炭化により導入された空孔型欠陥の研究
- 25pYP-4 As^+イオン注入によりSi基板中に導入された反跳酸素と空孔型欠陥の検出
- 23pYH-9 陽電子消滅を用いたダイヤモンドの格子欠陥の荷電状態の分析
- SiC/Si界面のボイド欠陥発生の陽電子消滅法による観察 : エピタキシャル成長IV
- 低速陽電子によるP注入SiCの欠陥検出と焼鈍特性の研究 (「陽電子ビームの形成と理工学への応用」専門研究会報告書 平成12年度)
- 陽電子寿命 - ドップラー拡がり相関測定によるポジトロニウムと分子の反応の解析
- 対向型陽電子消滅γ線ドップラー拡がり測定装置の製作
- イオン注入及び注入後熱処理した3C-SiC中の残留欠陥の研究 (特集:耐熱・耐放射線半導体素子材料技術)
- 陽電子消滅による高分子のガラス転移と緩和現象の検出
- 表面近傍での陽電子の基本的挙動とそれらを利用した材料評価
- 陽電子消滅による高分子材料の評価
- AlNエピタキシャル薄膜における励起子発光機構(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- III族窒化物半導体(Al,Ga)Nにおける発光特性と点欠陥の相関関係(窒化物半導体結晶中の欠陥)
- 26pYS-5 飛行時間法で測定した,固体表面からのポジトロニウム放出(X線・粒子線(陽電子),領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
- 陽電子消滅によるSrTiO3およびBaTiO3の酸素欠陥の研究 (「陽電子ビームの形成と理工学への応用」専門研究会報告書 平成14年度)
- 合金シードを用いるめっき銅薄膜のキャラクタリゼーション(機能性界面と分析化学)
- 陽電子ビーム1.低速陽電子ビームの発生
- 低速陽電子によるSiO_2膜の評価
- 自動温度可変消滅γ線ドップラー拡がり測定装置の製作と金属の熱平衡状態測定への応用
- AlNエピタキシャル薄膜における励起子発光機構(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- AlNエピタキシャル薄膜における励起子発光機構(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 3a-C-12 陽電子寿命-運動量相関測定による非晶質合金中の空孔型欠陥の研究
- 低速陽電子ビームを用いたCu/low-k配線構造中の欠陥検出(配線・実装技術と関連材料技術)
- 1a-SG-14 BGO64検出器陽電子消滅角相関装置の製作
- 1a-SG-13 陽電子消滅の温度・スペクトル2次元相関測定法の開発とAl合金中の熱平衡欠陥
- 陽電子消滅による電子線照射石英ガラスの欠陥の検出
- 27a-ZN-3 陽電子消滅によるSiの酸素と電子線照射により導入された欠陥の相互作用の研究
- 1p-M-7 Pb希薄合金の熱平衡陽電子消滅実験
- 1p-M-6 Al希薄合金の熱平衡陽電子消滅実験における高温域での異常
- 1p-M-5 低速陽電子法によるNiに注入したHeの深さ分布測定
- 1p-M-4 低速陽電子法によるInPの表面欠陥の検出
- 2a-KL-9 陽電子消滅法によるInP単結晶の評価
- ポジトロン消滅と材料の解析
- 27pTN-4 低速陽電子ビーム大気取り出し法の研究(27pTN X線・粒子線(陽電子・電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 21aJA-12 低速陽電子ビームを用いた大気中試料の空孔分析法の開発(21aJA X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 陽電子消滅による高分子材料評価
- 24p-T-3 薄膜の欠陥評価への低速陽電子線の応用
- 表面・界面プローブとしての低速陽電子
- 単色陽電子線による半導体の表面・界面近傍の欠陥評価
- 3a-C4-6 MOS積層構造中の荷電粒子(陽電子)の挙動と界面欠陥
- 6a-A3-4 深さの関数としての陽電子消滅測定(II) : 金属中の注入希ガス原子
- 6a-A3-3 深さの関数としての陽電子消滅測定(I) : 半導体のイオン注入欠陥
- 単一エネルギ-低速陽電子を用いた表面解析装置
- 27a-Z-9 単色低速陽電子線を用いたSiのBイオン注入に伴う欠陥分布の測定
- 27A-Z-8 単色低速陽電子線を用いた金属中のHeイオン注入プロファイルの測定
- 30p-RC-6 低速陽電子による金属中の注入Heの集合、再放出過程の測定
- 5p-E-4 低速陽電子法によるSiO_2/Si界面の照射効果
- 3a-C-13 非晶質金属における陽電子捕獲効果の温度依存性
- 2a-RJ-8 低速陽電子による表面損傷の研究
- 11p-A-12 低速陽電子装置による表面、界面研究法の開発
- 24pCE-2 大気中湿度制御環境下における低速陽電子計測法の開発(24pCE X線・粒子線(陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 29aXZB-7 インダクションバンチャーを用いた高効率陽電子ビームパルス化システムの開発(29aXZB 領域10,ビーム物理領域合同 X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
- 29aXZB-7 インダクションバンチャーを用いた高効率陽電子ビームパルス化システムの開発(29aXZB 領域10,ビーム物理領域合同 X線・粒子線(電子線・陽電子),ビーム物理領域)
- 28pAL-14 陽電子プローブ用静電加速システムの開発(28pAL X線・粒子線(電子線,陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))