鳥居 和功 | 半導体先端テクノロジーズ(Selete)

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概要

• 同名の論文著者
• 半導体先端テクノロジーズ(Selete)の論文著者

関連著者

• 鳥居 和功

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 上殿 明良

  筑波大数理

• 上殿 明良

  筑波大学電子物理工学系

• 樋口 恵一

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 後藤 正和

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 上殿 明良

  筑波大学・物理工学系

• 川原 孝昭

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 川原 孝昭

  (株)ルネサステクノロジ

• 廣瀬 和之

  総合研究大学院大学

• 廣瀬 和之

  総合研究大学院大学:宇宙科学研究本部

• 山部 紀久夫

  筑波大学

• 山脇 師之

  総合研究大学院大学

• 川原 孝昭

  半導体先端テクノロジーズ

• 後藤 正和

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ

• 上殿 明良

  筑波大学物理工学系

• 廣瀬 和之

  宇宙科学研究所

• 鈴木 良一

  産総研

• 大平 俊行

  産総研

• 上殿 明良

  筑波大学数理物質科学研究科

• 大平 俊行

  産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門

• 鈴木 良一

  産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門

• 白石 賢二

  筑波大学数理物質科学研究科

• 山部 紀久夫

  筑波大学数理物質科学研究科

• 知京 豊裕

  物質材料研究機構(NIMS)

• 知京 豊裕

  物材機構

• 後藤 正和

  筑波大学数理物質科学研究科

• 樋口 恵一

  筑波大学数理物質科学研究科

• 池内 恒平

  筑波大学数理物質科学研究科

• ABUDUL Hamid

  物質材料研究機構(NIMS)

• 山田 啓作

  物質材料研究機構(NIMS)

• 北島 洋

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 三橋 理一郎

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 堀内 淳

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 有門 経敏

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 蓮沼 隆

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 山部 紀久夫

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 知京 豊裕

  (独)物質・材料研究機構

• 堀内 淳

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 服部 健雄

  武蔵工業大学工学部

• 鈴木 良一

  産業技術総合研究所

• 知京 豊裕

  金属材料技術研究所

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 蓮沼 隆

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 北島 洋

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 有門 経敏

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 山田 啓作

  筑波大学数理物質科学研究科

• 服部 健雄

  武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター

• 白石 賢二

  筑波大学

• 鈴木 伸子

  総合研究大学院大学

• 三橋 理一郎

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 廣瀬 和之

  JAXS宇宙科学研究本部

• 川尻 智司

  武蔵工業大学工学研究科

• 大平 俊行

  産業総合技術研究所計測フロンティア研究部門

• 知京 豊裕

  (独)物質・材料研究機構 半導体材料センター

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 大平 俊行

  産業技術総合研究所

• 服部 健雄

  東京工大 フロンティア研究機構

• 服部 健雄

  武蔵工業大学

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著作論文

• 低速陽電子ビームを用いた high-κ 膜の空隙評価
• HfAlOxゲート絶縁膜をもつMOSキャパシタの過渡的電気特性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• XPS/AESによるHfSiOx薄膜の光学的誘電率の推定(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• XPS時間依存測定法によるHfAlOx薄膜中の電荷捕獲現象の評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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