川原 孝昭 | 半導体先端テクノロジーズ

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概要

• 同名の論文著者
• 半導体先端テクノロジーズの論文著者

関連著者

• 鳥居 和功

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 川原 孝昭

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 川原 孝昭

  (株)ルネサステクノロジ

• 廣瀬 和之

  総合研究大学院大学

• 廣瀬 和之

  総合研究大学院大学:宇宙科学研究本部

• 山脇 師之

  総合研究大学院大学

• 川原 孝昭

  半導体先端テクノロジーズ

• 廣瀬 和之

  宇宙科学研究所

• 服部 健雄

  武蔵工業大学工学部

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 服部 健雄

  武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター

• 鈴木 伸子

  総合研究大学院大学

• 廣瀬 和之

  JAXS宇宙科学研究本部

• 川尻 智司

  武蔵工業大学工学研究科

• 服部 健雄

  東京工大 フロンティア研究機構

• 服部 健雄

  武蔵工業大学

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著作論文

• XPS/AESによるHfSiOx薄膜の光学的誘電率の推定(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• XPS時間依存測定法によるHfAlOx薄膜中の電荷捕獲現象の評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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