廣瀬 和之 | 宇宙科学研究所

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概要

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関連著者

• 廣瀬 和之

  宇宙科学研究所

• 廣瀬 和之

  総合研究大学院大学

• 廣瀬 和之

  総合研究大学院大学:宇宙科学研究本部

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 服部 健雄

  東京工大 フロンティア研究機構

• 廣瀬 和之

  宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究本部

• 廣瀬 和之

  宇宙科学研

• 高橋 健介

  武蔵工大工

• 高橋 健介

  武蔵工業大学工学部

• 服部 健雄

  武蔵工業大学工学部

• 服部 健雄

  武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター

• 廣瀬 和之

  文部省宇宙科学研究所

• 服部 健雄

  武蔵工業大学

• 鳥居 和功

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 川原 孝昭

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 川原 孝昭

  (株)ルネサステクノロジ

• 山脇 師之

  総合研究大学院大学

• 川原 孝昭

  半導体先端テクノロジーズ

• 野平 博司

  Musashi Institute Of Technology

• セマン ムスタファ

  武蔵工業大学工学部

• セマン ムスタファ

  武蔵工業大学 工学部

• 中村 智裕

  武蔵工業大学工学部

• 野平 博司

  武蔵工業大学工学部

• 服部 健雄

  東北大学未来情報産業共同研究センター

• 藤枝 信次

  日本電気株式会社デバイスプラットフォーム研究所

• 藤枝 信次

  「応用物理」編集委員会

• SEMAN Mustafa

  武蔵工業大学工学部

• 鈴木 伸子

  総合研究大学院大学

• 廣瀬 和之

  JAXS宇宙科学研究本部

• 川尻 智司

  武蔵工業大学工学研究科

• 藤枝 信次

  Ecシリコノシステム研究所

• 藤枝 信次

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 藤枝 信次

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 藤枝 信次

  NECシリコンシステム研究所

• 三浦 喜直

  NECシリコンシステム研究所

• 服部 健雄

  宇宙科学研究所

• BIN SEMAN

  武蔵工業大学工学部

• Nohira Hiroshi

  Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology

• 服部 健雄

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 廣瀬 和之

  宇宙航空研究開発機構 宇宙科研

• 廣瀬 和之

  宇宙航空研究開発機構

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著作論文

• XPS/AESによるHfSiOx薄膜の光学的誘電率の推定(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• XPS時間依存測定法によるHfAlOx薄膜中の電荷捕獲現象の評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• Si 基板上の Al 膜配向性がショットキー特性に及ぼす影響
• X線光電子分光法による極薄シリコン酸化膜の高精度膜厚算出
• Si-SiO_2系の形成・構造・物性
• ショットキー障壁形成機構と制御可能性について
• ショットキー障壁形成機構と制御可能性について
• ショットキー障壁形成機構と制御可能性について
• SiO_2/Si(111)界面における価電子に対するエネルギー障壁
• SiO_2/Si(111)界面における価電子に対するエネルギー障壁
• 光電子分光法によるSi系材料ナノ構造の評価

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