川原 孝昭 | (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

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概要

• 同名の論文著者
• (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部の論文著者

関連著者

• 川原 孝昭

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 川原 孝昭

  (株)ルネサステクノロジ

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 鳥居 和功

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 鳥居 和功

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 林 岳

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 林 岳

  (株)ルネサステクノロジ

• 堀内 淳

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 米田 昌弘

  (株)ルネサステクノロジ

• 由上 二郎

  (株)ルネサステクノロジ

• 志賀 克哉

  (株)ルネサステクノロジ

• 由上 二郎

  (株)日立製作所 中央研究所

• 志賀 克哉

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 由上 二郎

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 廣瀬 和之

  総合研究大学院大学

• 廣瀬 和之

  総合研究大学院大学:宇宙科学研究本部

• 山脇 師之

  総合研究大学院大学

• 川原 孝昭

  半導体先端テクノロジーズ

• 大路 洋

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 川原 孝昭

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 三橋 理一郎

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 由上 二郎

  ルネサス テクノロジ

• 廣瀬 和之

  宇宙科学研究所

• 宮崎 誠一

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 北島 洋

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 大田 晃生

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 服部 健雄

  武蔵工業大学工学部

• 大野 吉和

  (株)ルネサステクノロジ

• 梅田 浩司

  ULSI技術開発センター

• 川崎 洋司

  (株)ルネサステクノロジ

• 山下 朋弘

  (株)ルネサステクノロジ

• 吉村 秀文

  (株)ルネサステクノロジ

• 中川 博

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 水谷 斉治

  (株)ルネサステクノロジ

• 西出 征男

  三菱電機株式会社 ULSI技術開発センター

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ

• 辻川 真平

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 坂下 真介

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 東 雅彦

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 武島 豊

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 山成 真市

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 西田 征男

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 辻川 真平

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 北島 洋

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 服部 健雄

  武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター

• 鈴木 伸子

  総合研究大学院大学

• 武藤 彰良

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 廣瀬 和之

  JAXS宇宙科学研究本部

• 川尻 智司

  武蔵工業大学工学研究科

• 大田 晃生

  広島大・先端物質科学研究科

• 中川 博

  広島大・先端物質科学研究科

• 村上 秀樹

  広島大・先端物質科学研究科

• 東 清一郎

  広島大・先端物質科学研究科

• 宮崎 誠一

  広島大・先端物質科学研究科

• 川原 孝明

  (株)半導体先端テクノロジーズ high-κ 要素プロセスグループ

• 高田 仁志

  (株)半導体先端テクノロジーズ high-κ 要素プロセスグループ

• 高橋 正志

  (株)半導体先端テクノロジーズ high-κ 要素プロセスグループ

• 宮崎 誠一

  広島大学大学院

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ

• 服部 健雄

  東京工大 フロンティア研究機構

• 服部 健雄

  武蔵工業大学

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著作論文

• HfSiON絶縁膜を用いたメタルゲートCMOSプロセスの検討
• CMOS用極薄SiONゲート絶縁膜のn/p独立チューニング(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
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