川原 孝昭 | (株)半導体先端テクノロジーズ
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
鳥居 和功
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
鳥居 和功
日立製作所中央研究所
-
川原 孝昭
(株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部
-
川原 孝昭
(株)ルネサステクノロジ
-
川原 孝昭
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
宮崎 誠一
広島大学大学院 先端物質科学研究科
-
北島 洋
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
-
堀内 淳
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
大田 晃生
広島大学大学院先端物質科学研究科
-
中川 博
広島大学大学院先端物質科学研究科
-
北島 洋
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
大路 洋
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
武藤 彰良
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
三橋 理一郎
(株)半導体先端テクノロジーズ
-
大田 晃生
広島大・先端物質科学研究科
-
中川 博
広島大・先端物質科学研究科
-
村上 秀樹
広島大・先端物質科学研究科
-
東 清一郎
広島大・先端物質科学研究科
-
宮崎 誠一
広島大・先端物質科学研究科
-
宮崎 誠一
広島大学大学院
著作論文
- polySi/HfAlOx/SiONゲートスタックの経時絶縁破壊(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 光電子分光分析によるHfAlOx/Si(100)系スタック構造における界面反応評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)