HfAlO_x/下地膜界面反応抑制の検討

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概要

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• 日本表面科学会の論文
• 2005-05-10

著者

• 堀内 淳

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 鳥居 和功

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 川原 孝昭

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 川原 孝昭

  (株)ルネサステクノロジ

• 大路 洋

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 三橋 理一郎

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 川原 孝明

  (株)半導体先端テクノロジーズ high-κ 要素プロセスグループ

• 高田 仁志

  (株)半導体先端テクノロジーズ high-κ 要素プロセスグループ

• 高橋 正志

  (株)半導体先端テクノロジーズ high-κ 要素プロセスグループ

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