研究紹介 HfO2系high-kゲート絶縁膜の信頼性劣化機構モデル

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概要

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• 応用物理学会の論文

著者

• 宮崎 誠一

  広大院先端研

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 白石 賢二

  筑波大学

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