蓮沼 隆 | 筑波大学電子・物理工学専攻

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概要

• 同名の論文著者
• 筑波大学電子・物理工学専攻の論文著者

関連著者

• 蓮沼 隆

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 蓮沼 隆

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 山部 紀久夫

  筑波大学

• 上殿 明良

  筑波大数理

• 上殿 明良

  筑波大学電子物理工学系

• 白石 賢二

  筑波大学数理物質科学研究科

• 山部 紀久夫

  筑波大学数理物質科学研究科

• 宮崎 誠一

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 奈良 安雄

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 山田 啓作

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 鳥居 和功

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 樋口 恵一

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 後藤 正和

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 山部 紀久夫

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 奈良 安雄

  (株)富士通研究所 Ulsi研究部門

• 奈良 安雄

  (株)半導体先端テクノロジーズ 第一研究部

• 白石 賢二

  筑波大院数物

• 宮崎 誠一

  広大院先端研

• 上殿 明良

  筑波大学・物理工学系

• 宮崎 誠一

  広島大学 工学部

• 佐藤 基之

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 青山 敬幸

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 大路 譲

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 大路 譲

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 大路 譲

  半導体先端テクノロジーズ

• 山田 啓作

  筑波大学数理物質科学研究科

• 佐藤 基之

  (株)半導体先端テクノロジーズ (selete)

• 白石 賢二

  筑波大学

• 蓮沼 隆

  筑波大学 電子・物理工学専攻

• 奈良 安雄

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 宮崎 誠一

  広大

• 後藤 正和

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ

• 宮崎 誠一

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 大路 譲

  半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 上殿 明良

  筑波大学物理工学系

• 山田 啓作

  早稲田大学:筑波大学

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科:JST-CREST

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著作論文

• HfAlOxゲート絶縁膜をもつMOSキャパシタの過渡的電気特性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• HfSiON/TiNゲートスタックpMOSFETの陰極電子注入絶縁破壊モデルに基づくTDDB寿命予測方法

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