平野 泉 | (株)東芝研究開発センター

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概要

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• (株)東芝研究開発センターの論文著者

関連著者

• 平野 泉

  (株)東芝研究開発センター

• 山口 豪

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 綱島 祥隆

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 江口 和弘

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 三谷 祐一郎

  東芝

• 三谷 祐一郎

  (株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー

• 綱島 祥隆

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 関根 克行

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 関根 克行

  東芝 セミコンダクター社

• 江口 和弘

  半導体理工学センター(STARC)

• 山口 豪

  (株)東芝 研究開発センター

• 江口 和弘

  (株)東芝

• 綱島 祥隆

  (株)東芝

• 三谷 祐一郎

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 高柳 万里子

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 佐竹 秀喜

  (株)東芝先端半導体デバイス研究所

• 金子 明生

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠治

  (株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター

• 佐藤 基之

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体プロセス開発第四部

• 佐藤 基之

  東芝 セミコンダクター社

• 犬宮 誠治

  東芝

• 辰村 光介

  研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー株式会社東芝

• 金子 明生

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 三谷 祐一郎

  芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 佐竹 秀喜

  (株)東芝 研究開発センター Lsi基盤技術ラボラトリー

• 辰村 光介

  (株)東芝 研究開発センター

• 平野 泉

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 辰村 光介

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 陳 杰智

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

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著作論文

• HfSiO(N)膜の欠陥生成と絶縁破壊機構(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• HfSiON高誘電率ゲート絶縁膜技術
• ランダム・テレグラフ・ノイズを引き起こす欠陥の種類とその特性(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)

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