中嶋 一明 | 株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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概要
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松尾 浩司
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著作論文
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- 45nm世代のLSTP SRAMへのNi FUIS電極適用によるしきい値ばらつき抑制効果
- ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD-2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
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