神林 茂 | (株)東芝 研究開発センター

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概要

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• (株)東芝 研究開発センターの論文著者

関連著者

• 神林 茂

  (株)東芝 研究開発センター

• 間 博顕

  株式会社東芝

• 間 博顕

  東芝ULSI研究所

• 高橋 稔

  東芝ULSI研究所

• 吉見 信

  東芝ULSI研究所

• 神林 茂

  東芝ULSI研究所

• 剣持 雅人

  東芝ULSI研究所

• 剣持 雅人

  東芝

• 小澤 良夫

  株式会社東芝

• 間 博顕

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 水島 一郎

  (株)東芝 研究開発センター

• 水島 一郎

  (株)東芝研究開発センターulsi研究所

• 三谷 祐一郎

  (株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー

• 丹呉 浩侑

  東芝ulsi研究所

• 齋田 繁彦

  (株)東芝 研究開発センター

• 間 博顕

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 小池 三夫

  (株)東芝

• 小澤 良夫

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 小池 三夫

  東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 三谷 祐一郎

  (株)東芝 研究開発センター

• 吉見 信

  東芝 Soc研開セ

• 水島 一郎

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

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著作論文

• 電子線アニール技術を用いた三次元イメージプロセッサの試作と評価
• 単結晶浮遊ゲート電極を用いた不揮発性メモリセルの検討
• 1)電子線アニール技術を用いた三次元イメージプロセッサの試作と評価(テレビジョン電子装置研究会)
• 薄膜SOIの上に形成した高性能MOSトランジスタ (ULSI基盤技術)

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