薄膜SOIの上に形成した高性能MOSトランジスタ (ULSI基盤技術<特集>)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 東芝技術企画室の論文

著者

• 神林 茂

  (株)東芝 研究開発センター

関連論文

• 電子線アニール技術を用いた三次元イメージプロセッサの試作と評価
• 単結晶浮遊ゲート電極を用いた不揮発性メモリセルの検討
• 1)電子線アニール技術を用いた三次元イメージプロセッサの試作と評価(テレビジョン電子装置研究会)
• 薄膜SOIの上に形成した高性能MOSトランジスタ (ULSI基盤技術)

スポンサーリンク