二重Si量子ドットメモリにおける量子ドット径の微小化と不揮発性の実証
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概要
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Si量子ドットが二重に積重なった構造を浮遊ゲートとするメモリでは、通常のSi量子ドットメモリの高速書込・消去を維持しながら記憶保持時間を飛躍的に長くすることが可能になる。これは低電圧状態(記憶保持状態)では、二重ドット構造における下部Siドットでのクーロンブロッケイドと量子閉じ込めにより、チャネルと上部Siドット間のリークが有効に抑制されるが、電圧付加時(書込・消去時)はそのようなリーク抑制が作用しないことによる。下部Si量子ドットの大きさを小さくするほど指数関数的に記憶保持時間が向上するため、二重Siドットメモリは低電圧不揮発メモリの有力な候補である。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-04-05
著者
-
古賀 淳二
東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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古賀 淳二
東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
大場 竜二
東芝研究開発センター
-
杉山 直治
芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
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古賀 淳二
東芝研究開発センターlsi基盤技術研究所
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杉山 直治
東芝研究開発センターLSI基盤技術研究所
-
内田 健
東芝研究開発センターLSI基盤技術研究所
-
大場 竜二
(株)東芝セミコンダクター社
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大場 竜二
東芝研究開発センターlsi基盤技術研究所
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