先端LSIに向けた直接接合極薄ランタンアルミネートゲート絶縁膜
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概要
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- 2007-01-10
著者
-
鈴木 正道
(株)東芝 研究開発センター
-
山口 豪
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
-
富田 充裕
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
小山 正人
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
小山 正人
(株)東芝研究開発センター
-
富田 充裕
株式会社東芝研究開発センター
-
山口 豪
(株)東芝 研究開発センター
-
小山 正人
(株)東芝
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