0.1μm CMOS用サリサイドプロセスの最適化
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概要
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- 1995-11-30
著者
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後藤 賢一
富士通株式会社 次世代lsi開発事業部
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山崎 辰也
富士通・半導体プロセス開発部
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後藤 賢一
(株)富士通研究所
-
伏田 篤郎
富士通(株)
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山崎 辰也
富士通(株)
-
伏田 篤郎
(株)富士通研究所
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