二ツ木 高志 | オルガノ株式会社
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概要
関連著者
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二ツ木 高志
オルガノ株式会社
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二ツ木 高志
東北大学電気通信研究所
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木村 千春
大阪大学大学院工学研究科
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青木 秀充
大阪大学大学院工学研究科
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小松 直佳
大阪大学大学院工学研究科
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青木 秀充
大阪大 大学院工学研究科
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大江 太郎
オルガノ株式会社 Scwo部
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大江 太郎
オルガノ
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大江 太郎
オルガノ株式会社
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杉野 隆
大阪大学大学院工学研究科
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大江 太郎
オルガノ株式会社 開発センター研究開発部
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二ツ木 高志
大阪大学大学院工学研究科
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田嶋 義宣
オルガノ株式会社総合研究所
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阿部 哲也
日本原子力研究所那珂研究所
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廣木 成治
日本原子力研究所・那珂研究所
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丹澤 貞光
日本原子力研究所・那珂研究所
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阿部 哲也
日本原子力研究所 那珂研究所
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大見 忠弘
東北大学電子工学科
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廣木 成治
日本原子力研究所那珂研究所
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丹澤 貞光
日本原子力研究所那珂研究所
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大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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阿部 哲也
原研
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阿部 哲也
日本原子力研究所・那珂研究所
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鎌倉 良成
大阪大学大学院工学研究科
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鎌倉 良成
大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻:独立行政法人科学技術振興機構 Crest
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大見 忠弘
東北大学工学部
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牧原 康二
東北大学工学部電子工学科
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山本 和馬
東北大学電気通信研究所超微細電子回路実験施設
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大見 和幸
東北大学工学部電子工学科
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Verhaverbeke Steven
東北大学工学部電子工学科
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Ohmi Tadahiro
東北大学工学部電子工学科
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安井 信一
東北大学電子工学科
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米川 直道
東北大学電子工学科
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安井 信一
東北大学工学部
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佐藤 智久
大阪大学大学院工学研究科
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ニツ木 高志
オルガノ株式会社
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米川 直道
野村マイクロサイエンス(株)開発部
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阿部 哲也
日本原子力研究所
著作論文
- 全フッ素化化合物の連続循環ガスクロマトグラフによる分離基礎実験
- 高温高圧水中でのSiCおよびGaN表面の酸化処理(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- 高温高圧水中でのSiCおよびGaN表面の酸化処理(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
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- MOSチャネル移動度のSi/SiO_2界面マイクロラフネス依存性
- The Formation of Terraces and Steps on Si(100) Surfaces and the Change of these Surfaces during Wet Processing
- オゾン添加超純水を用いたシリコンウエハ表面の有機物除去
- 全フッ素化化合物の連続循環ガスクロマトグラフによる分離基礎実験
- 超臨界水で酸化したSiC基板表面とその膜質評価(シリコン関連材料の作製と評価)