青木 秀充 | 大阪大学大学院工学研究科
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概要
関連著者
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青木 秀充
大阪大学大学院工学研究科
-
木村 千春
大阪大学大学院工学研究科
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杉野 隆
大阪大学大学院工学研究科
-
青木 秀充
大阪大 大学院工学研究科
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小松 直佳
大阪大学大学院工学研究科
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堀田 沙織
大阪大学大学院工学研究科
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渡邊 大祐
ダイキン工業株式会社
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二ツ木 高志
オルガノ株式会社
-
松之内 恵子
大阪大学大学院工学研究科
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二ツ木 高志
東北大学電気通信研究所
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渡邊 大祐
大阪大学大学院工学研究科
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大江 太郎
オルガノ株式会社 Scwo部
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大江 太郎
オルガノ
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大江 太郎
オルガノ株式会社
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原 誠
大阪大学大学院工学研究科
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大江 太郎
オルガノ株式会社 開発センター研究開発部
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二ツ木 高志
大阪大学大学院工学研究科
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増井 昭彦
大阪府立産技総研
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藤原 信明
大阪府立産技総研
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増住 拓朗
大阪大学大学院工学研究科
-
呂 志明
大阪大学大学院工学研究科
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宮野 一輝
大阪大学大学院工学研究科
-
矢野 大作
オルガノ株式会社
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佐野 和彦
オルガノ株式会社
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山中 弘次
オルガノ株式会社
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大井 直樹
大阪大学大学院工学研究科
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鄭 鍾〓
大阪大学大学院工学研究科
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宮野 一輝
大阪大学 工学研究科 電気電子情報工学専攻
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増井 昭彦
大阪府立産業技術総合研究所
-
藤原 信明
大阪府立産業技術総合研究所
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由川 真
大阪大学大学院工学研究科
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堀川 祐一
株式会社ホリゾン
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瀧澤 克雄
株式会社ホリゾン
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杉野 隆
大阪大学工学部
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大山 和俊
大阪大学工学研究科電気電子情報工学専攻
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青木 秀充
大阪大学
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奥村 幸彦
舞鶴高専専攻科
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鎌倉 良成
大阪大学大学院工学研究科
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鎌倉 良成
大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻:独立行政法人科学技術振興機構 Crest
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九鬼 知博
大阪大学大学院工学研究科
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田中 裕崇
大阪大学大学院工学研究科
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岡田 邦孝
大阪大学大学院工学研究科
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岡本 幸一
舞鶴工業高等専門学校
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和田 優
舞鶴工業高等専門学校
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伊藤 篤史
三菱化学株式会社半導体材料研究所
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木村 千春
大阪大学工学部
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和田 優
舞鶴工業高等専門学校電子制御工学科
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大西 将功
大阪大学大学院工学研究科
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大見 剛
大阪大学大学院工学研究科
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粂田 和弘
株式会社ニチビ
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畑 康人
株式会社ニチビ
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久保 英太郎
大阪大学大学院工学研究科
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原田 憲
三菱化学株式会社半導体材料研究所
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河瀬 康弘
三菱化学株式会社EL薬品事業部
-
水谷 文一
三菱化学株式会社EL薬品事業部
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新田 智弘
大阪大学工学研究科電気電子情報工学専攻
-
青木 秀充
大阪大学工学研究科電気電子情報工学専攻
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栗本 裕史
大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻
-
近松 健太郎
大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻
-
佐藤 智久
大阪大学大学院工学研究科
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ニツ木 高志
オルガノ株式会社
-
河瀬 康弘
三菱化学株式会社
著作論文
- メチルBCN膜のRFバイアスによる膜質依存性(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- BCN薄膜をコーティングしたカーボンナノチューブのフィールドエミッション特性(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 触媒金属上に成長したBCNのフィールドエミッション特性(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 多孔質イオン交換体を用いた生体関連物質のセンシング(センサデバイス・MEMS・一般)
- メチルBCN膜の低温ドライエッチング評価(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- ワイドバンドギャップ半導体用NドープAlSiO膜の特性評価(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性,一般))
- ウェットプロセスによるメタルゲートの光コロージョン(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- MEMS配線用の電磁界Cuめっき技術 (マテリアルフォーカス:エレナノ MEMSデバイス,モジュールに用いられるマテリアルとその加工・洗浄・表面処理)
- 繊維状イオン交換膜を用いた有機酸センシング(センサーデバイス,MEMS,一般)
- 電磁場Cuめっきを用いた環境発電MEMS用マイクロコイルの作製プロセス(センサーデバイス,MEMS,一般)
- Cu-CMP後洗浄用有機防食剤のCu錯体溶解評価(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- ベベルクリーニング用Ruバリア薄膜の電気化学溶解(配線・実装技術と関連材料技術)
- Pt-Ir触媒によるギ酸アンモニウム燃料電池のアノード酸化反応の向上
- 先端半導体デバイスの洗浄技術における電気化学
- 高温高圧水中でのSiCおよびGaN表面の酸化処理(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- フッ化水素と有機溶媒の混合液を用いた積層メタルゲートのガルバニックコロージョン抑制(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- イットリウムアルミネート(YAlO)薄膜の電気的特性評価(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- 高温高圧水中でのSiCおよびGaN表面の酸化処理(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- フッ化水素と有機溶媒の混合液を用いた積層メタルゲートのガルバニックコロージョン抑制(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- イットリウムアルミネート(YAlO)薄膜の電気的特性評価(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- 高温高圧水中でのSiCおよびGaN表面の酸化処理(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- フッ化水素と有機溶媒の混合液を用いた積層メタルゲートのガルバニックコロージョン抑制(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- イットリウムアルミネート(YAlO)薄膜の電気的特性評価(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- 洗浄技術の動向と今後
- 多孔質イオン交換体を用いた生体関連物質のセンシング(センサデバイス・MEMS・一般)
- アルミニウムシリケート(AlSiO)絶縁薄膜の特性評価
- 超臨界水で酸化したSiC基板表面とその膜質評価(シリコン関連材料の作製と評価)