小松 直佳 | 大阪大学大学院工学研究科

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概要

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関連著者

• 木村 千春

  大阪大学大学院工学研究科

• 青木 秀充

  大阪大学大学院工学研究科

• 小松 直佳

  大阪大学大学院工学研究科

• 杉野 隆

  大阪大学大学院工学研究科

• 青木 秀充

  大阪大 大学院工学研究科

• 二ツ木 高志

  オルガノ株式会社

• 松之内 恵子

  大阪大学大学院工学研究科

• 二ツ木 高志

  東北大学電気通信研究所

• 大江 太郎

  オルガノ株式会社 Scwo部

• 大江 太郎

  オルガノ

• 大江 太郎

  オルガノ株式会社

• 大江 太郎

  オルガノ株式会社 開発センター研究開発部

• 二ツ木 高志

  大阪大学大学院工学研究科

• 奥村 幸彦

  舞鶴高専専攻科

• 鎌倉 良成

  大阪大学大学院工学研究科

• 鎌倉 良成

  大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻:独立行政法人科学技術振興機構 Crest

• 田中 裕崇

  大阪大学大学院工学研究科

• 栗本 裕史

  大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻

• 近松 健太郎

  大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻

• 佐藤 智久

  大阪大学大学院工学研究科

• ニツ木 高志

  オルガノ株式会社

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著作論文

• ワイドバンドギャップ半導体用NドープAlSiO膜の特性評価(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性,一般))
• 高温高圧水中でのSiCおよびGaN表面の酸化処理(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• イットリウムアルミネート(YAlO)薄膜の電気的特性評価(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• 高温高圧水中でのSiCおよびGaN表面の酸化処理(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• イットリウムアルミネート(YAlO)薄膜の電気的特性評価(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• 高温高圧水中でのSiCおよびGaN表面の酸化処理(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• イットリウムアルミネート(YAlO)薄膜の電気的特性評価(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• アルミニウムシリケート(AlSiO)絶縁薄膜の特性評価
• 超臨界水で酸化したSiC基板表面とその膜質評価(シリコン関連材料の作製と評価)

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