小川 修一 | 東北大学多元物質科学研究所

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概要

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• 東北大学多元物質科学研究所の論文著者

関連著者

• 小川 修一

  東北大学多元物質科学研究所

• 高桑 雄二

  東北大学多元物質科学研究所

• 小川 修一

  東北大学 多元物質科学研究所

• 高桑 雄二

  東北大学 多元物質科学研究所

• 石塚 眞治

  秋田工業高等専門学校 物質工学科

• 吉越 章隆

  (独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門

• 吉越 章隆

  原研 放射光科学研セ

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究所放射光科学研究センター

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門

• 吉越 章隆

  日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門

• 寺岡 有殿

  原研

• 石塚 眞治

  秋田工業高等専門学校

• 吉越 章隆

  日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター

• 盛谷 浩右

  兵庫県立大学大学院工学研究科機械系工学専攻

• 水野 善之

  スタンフォード大学 スタンフォード加速器センター

• 盛谷 浩右

  大阪大学大学院理学研究科化学専攻

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門

• 吉越 章隆

  日本原子力研究所

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究所

• 水野 善之

  スタンフォード大

• 二瓶 瑞久

  Mirai-selete

• 二瓶 瑞久

  科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業

• 二瓶 瑞久

  独立行政法人産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター

• 高桑 雄二

  東北大科研

• 頓田 英機

  熊本大学工学部知能生産システム工学科

• 池永 英司

  Crest・jst

• 二瓶 瑞久

  CREST・JST

• 盛谷 浩右

  日本原子力研究開発機構 放射光科学研究ユニット

• 頓田 英機

  熊本大学自然科学研究科

• 頓田 英樹

  熊本大

• 小川 修一

  東北大多元研

• 池永 英司

  (財)高輝度光科学研究センター

• 頓田 英機

  熊本大学大学院自然科学研究科マテリアル工学専攻

• 佐藤 元伸

  富士通株式会社

• 本間 禎一

  千葉工業大学精密機械工学科

• 鷹林 将

  東北大電気通信研究所

• 池永 英司

  高輝度光科学研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業

• 楊 猛

  東北大学多元物質科学研究所

• 尾白 佳大

  東北大学多元物質科学研究所

• 池永 英司

  財団法人高照度光科学研究センター

• 佐藤 元伸

  東北大学多元物質科学研究所:(独)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター

• 寺岡 有殿

  原研 関西研

• 横山 直樹

  (株)富士通研究所

• 横山 直樹

  富士通

• 角 治樹

  東北大学多元物質科学研究所

• 石塚 眞治

  秋田高専

• 吉越 章隆

  原研

• 盛谷 浩右

  原研

• 本間 禎一

  千葉工大

• 本間 禎一

  千葉工大工

• 尾辻 泰一

  東北大学電気通信研究所

• 吉越 章隆

  原研関西研

• 末光 哲也

  東北大学電気通信研究所

• 高桑 雄二

  東北大

• 横山 直樹

  岡山大学大学院工学研究科

• 横山 直樹

  株式会社富士通研究所ナノエレクトロニクス研究センター:(現)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター

• 大友 悠大

  東北大学多元物質科学研究所

• 山田 貴壽

  (独)産業技術総合研究所 ナノチューブ応用研究センター

• 鷹林 将

  東北大学電気通信研究所

• 佐藤 元伸

  東北大学多元物質科学研究所

• 二瓶 瑞久

  (独)産業技術総合研究所 連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター

• 横山 直樹

  (独)産業技術総合研究所 連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター

• 横山 直樹

  神戸大学医学部附属病院周産母子センター

• 二瓶 瑞久

  (独)産業技術総合研究所 連携研究体 グリーン・ナノエレクトロニクスセンター

• 室 隆桂之

  JASRI

• 室隆 桂之

  SPring-8 JASRI

• 末光 眞希

  東北大学電気通信研究所

• 室 隆桂之

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 虻川 匡司

  東北大理

• 虻川 匡司

  東北大多元研

• 虻川 匡司

  東北大学多元物質科学研究所

• 横山 直樹

  神戸大学小児科

• 池永 英司

  高輝度光科学研究センター

• 室 隆桂之

  高輝度光科学研究センター

• 頓田 英機

  熊本大学 工学部

• 笠井 俊夫

  大阪大学大学院理学研究科化学専攻反応物理化学研究室

• 岡田 美智雄

  大阪大学科学教育機器リノベーションセンター

• 岡田 美智雄

  大阪大学大学院理学研究科化学専攻

• 室 桂隆之

  JASRI SPring-8

• 寺岡 有殿

  (独)日本原子力研究開発機構

• 本間 禎一

  千葉工業大学工学部

• 高見 知秀

  東北大学多元物質科学研究所

• 西窪 明彦

  CREST・JST

• 福山 哲也

  大阪大学大学院理学研究科化学専攻

• 小川 修一

  東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻博士後期課程

• 鉢上 隼介

  原研

• 高桑 雄二

  東北大多元研

• 池永 英司

  財団法人高輝度光科学研究センター(JASRI)

• 頓田 英樹

  熊本大学自然科学研究科

• 高見 知秀

  ヴイアールアイ株式会社

• 尾辻 泰一

  東北大学電気通信研究所:jst-crest

• 二瓶 瑞久

  富士通株式会社

• 末光 眞希

  東北大通研

• 高桑 雄二

  東北大学・科学計測研究所

• 清水 博文

  日本大学工学部

• 尾辻 泰一

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 渡邉 清人

  日本大学工学部

• 池田 正則

  日本大学工学部

• 池田 正則

  日大工

• 尾辻 泰一

  東北大学 電気通信研究所

• 尾辻 泰一

  東北大 電通研

• 笠井 俊夫

  大阪大学大学院理学研究科化学専攻

• 池永 英司

  財団法人 高輝度光科学研究センター

• 尾辻 康一

  九州工大

• 横山 直樹

  産業技術総合研究所連携研究体gnc

• 佐藤 元伸

  科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業

• 虻川 匡司

  東北大学多原研

• 笠井 俊夫

  大阪大学大学院理学研究科

• 渡辺 大輝

  東北大学 多元物質科学研究所

• 長谷川 雅孝

  (独)産業技術総合研究所 ナノチューブ応用研究センター

• 犬飼 学

  財団法人高照度光科学研究センター

• 二瓶 瑞久

  (独)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター

• 横山 直樹

  (独)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター

• 室 隆桂之

  SPring-8-JASRI

• 本間 禎一

  千葉工業大学

• 鷹林 将

  東北大学電気通信研究所:JST-CREST

• 林 広幸

  東北大学多元物質科学研究所

• 栗田 裕記

  東北大学電気通信研究所

• 虻川 匡司

  東北大学理

• 室 隆桂之

  財団法人 高輝度光科学研究センター

• 犬飼 学

  財団法人 高輝度光科学研究センター

• 佐藤 元伸

  産業技術総合研究所

• 二瓶 瑞久

  産業技術総合研究所

• 堀尾 吉已

  大同大学

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著作論文

• CVD成長多層グラフェン膜の顕微ラマン分光とバルク敏感XPSによる評価
• 超音速酸素分子ビームによる並進運動エネルギー誘起Ti(0001)表面酸化反応
• 超音速窒素分子ビームを用いたTi(0001)表面窒化反応のリアルタイム光電子分光観察
• Si(001)表面酸化過程のリアルタイム光電子分光観察 : 仕事関数と界面電子状態
• SiとTi表面での極薄酸化膜形成のリアルタイム表面分析 (特集 酸化物表面分析における最近の展開)
• 高輝度・高分解能放射光で見えてきた表面化学反応ダイナミクス : 超音速O_2分子線で誘起される表面酸化反応のその場光電子分光
• リアルタイム光電子分光によるTi(0001)表面酸化反応の観察
• 15aPS-23 極薄 Ti 酸化膜の分解過程のリアルタイム光電子分光観察(領域 9)
• 13aXF-2 Si(001) 表面酸化様式に依存した極薄酸化膜分解過程の「その場」観察(表面界面ダイナミクス : シリコン・ダイヤモンド, 領域 9)
• Ti(0001)表面酸化における極薄酸化膜成長と酸化状態
• Si(001)とSi(111)表面の極薄酸化膜形成過程の比較
• 22aYE-9 Ti(0001) 表面酸化における極薄酸化膜形成過程のリアルタイム計測
• 20pYD-8 Si(001) 表面での初期酸化過程への 2×1/1×2 分域比の影響
• Si(100)-(2×1) 表面の初期酸化過程における放出Si原子挙動の走査型トンネル顕微鏡観察
• 光電子制御プラズマ照射による金属基板表面への影響
• 表面物理計測の進展と機能性薄膜創製への展開 (特集 地域と世界に貢献する東北大学多元物質科学研究所)
• 光電子制御プラズマ照射による金属基板表面への影響
• 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線(配線・実装技術と関連材料技術)
• 光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト成長 : 結晶性の放電条件依存(配線・実装技術と関連材料技術)
• ダイヤモンドライクカーボン絶縁膜を用いたグラフェンFET (電子デバイス)
• リアルタイム光電子分光によるグラフェン・オン・ダイヤモンド形成過程の観察 (第31回表面科学学術講演会特集号(2))
• C-10-15 ダイヤモンドライクカーボン薄膜をトップゲート絶縁膜としたグラフェンFET(C-10.電子デバイス,一般セッション)
• リアルタイム光電子分光によるグラフェン・オン・ダイヤモンド形成過程の観察
• ラマン分光法およびXPSによるSiO_2/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究(配線・実装技術と関連材料技術)
• ダイヤモンドライクカーボン絶縁膜を用いたグラフェンFET(半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
• ラマン分光法およびXPSによるSiO_2/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究
• 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェンの結晶性と電気特性： H2とArキャリアガスの比較
• Si(001)表面に対するRHEED入射電子波動場

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