盛谷 浩右 | 大阪大学大学院理学研究科化学専攻
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
盛谷 浩右
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
-
盛谷 浩右
兵庫県立大学大学院工学研究科機械系工学専攻
-
寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
-
寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構
-
吉越 章隆
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
-
吉越 章隆
原研 放射光科学研セ
-
寺岡 有殿
日本原子力研究所放射光科学研究センター
-
吉越 章隆
(独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
-
寺岡 有殿
原研
-
笠井 俊夫
大阪大学大学院理学研究科化学専攻反応物理化学研究室
-
岡田 美智雄
大阪大学科学教育機器リノベーションセンター
-
吉越 章隆
日本原子力研究所
-
寺岡 有殿
日本原子力研究所
-
吉越 章隆
日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター
-
岡田 美智雄
阪大院理
-
笠井 俊夫
阪大院理
-
寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
-
盛谷 浩右
阪大院理
-
小川 修一
東北大学多元物質科学研究所
-
高桑 雄二
東北大学多元物質科学研究所
-
高桑 雄二
東北大学 多元物質科学研究所
-
石塚 眞治
秋田工業高等専門学校 物質工学科
-
盛谷 浩右
日本原子力研究開発機構 放射光科学研究ユニット
-
寺岡 有殿
原研 関西研
-
小川 修一
東北大学 多元物質科学研究所
-
水野 善之
スタンフォード大学 スタンフォード加速器センター
-
盛谷 浩右
原研
-
水野 善之
スタンフォード大
-
中村 真美子
阪大院理
-
村田 好正
東大生産研
-
村田 好正
東大生研
-
頓田 英機
熊本大学工学部知能生産システム工学科
-
村田 好正
電通大物理
-
寺岡 有殿
原研放射光
-
吉越 章隆
原研
-
頓田 英機
熊本大学自然科学研究科
-
頓田 英樹
熊本大
-
吉越 章隆
原研放射光
-
盛谷 浩右
原研放射光
-
頓田 英機
熊本大学大学院自然科学研究科マテリアル工学専攻
-
石塚 眞治
秋田工業高等専門学校
-
吉越 章隆
原研関西研
-
本間 禎一
千葉工業大学精密機械工学科
-
高桑 雄二
東北大科研
-
岡田 美智雄
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
-
石塚 眞治
秋田高専
-
鉢上 隼介
原研
-
本間 禎一
千葉工大
-
小川 修一
東北大多元研
-
本間 禎一
千葉工大工
-
後藤 征士朗
阪大院理
-
高桑 雄二
東北大
-
笠井 俊夫
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
-
笠井 俊夫
大阪大学大学院理学研究科
-
福谷 克之
東大生研
-
中西 寛
阪大院工
-
笠井 秀明
阪大院工
-
奥山 弘
京大院理
-
有賀 哲也
京大院理
-
頓田 英機
熊本大学 工学部
-
盛谷 浩右
阪大理
-
岡田 美智雄
阪大理
-
笠井 俊夫
阪大理
-
盛谷 浩右
兵庫県立大学大学院工学研究科 機械系工学専攻機械知能部門
-
寺岡 有殿
(独)日本原子力研究開発機構
-
本間 禎一
千葉工業大学工学部
-
福山 哲也
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
-
高橋 真
京大院理
-
高橋 真
コベルコ科研:京大院理:原研
-
頓田 英樹
熊本大学自然科学研究科
-
藤本 洋介
京大院理
-
Wilde Markus
東大生研
-
成廣 英介
大阪府立大学理学系研究科
-
鉢上 隼介
神戸大院工
-
有賀 哲也
京大院理:jst-crest
-
後藤 征士朗
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
-
成廣 英介
大阪府立大学大学院理学系研究科物理科学専攻
-
盛谷 浩右
兵庫県立大学大学院工学研究科
-
有賀 哲也
京都大学大学院理学研究科
-
本間 禎一
千葉工業大学
-
盛谷 浩右
原研放射光:阪大院理
著作論文
- 24pPSA-47 金属表面の水素分子吸着脱離過程におけるホットアトム機構の関与
- 24aPS-48 Ir(001)表面上への水素吸着(II)
- 29a-PS-47 Ir(001)表面上への水素吸着(I)
- 超音速酸素分子ビームによる並進運動エネルギー誘起Ti(0001)表面酸化反応
- 高輝度・高分解能放射光で見えてきた表面化学反応ダイナミクス : 超音速O_2分子線で誘起される表面酸化反応のその場光電子分光
- 15aPS-23 極薄 Ti 酸化膜の分解過程のリアルタイム光電子分光観察(領域 9)
- Ti(0001)表面酸化における極薄酸化膜成長と酸化状態
- 22aYE-9 Ti(0001) 表面酸化における極薄酸化膜形成過程のリアルタイム計測
- 19pPSB-46 Ir{111}表面における金薄膜の形成と水素吸着
- 30aPS-48 超音速分子線によるRu(0001)表面上の酸素吸着の研究(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
- Si(001)表面における酸化膜形成とSiO脱離の共存機構
- 室温における酸素分子のSi(111)-7×7表面での初期吸着ダイナミクス
- 27pXJ-15 Real-Time Synchrotron XPS and Nuclear Reaction Analysis Study on Growth Acceleration of Ultra-thin Alumina Films by Water Oxidation of NiAl
- 15aPS-26 SiO 質量分析と Si-2p 光電子分光の同時計測による Si(001) 表面における SiO 脱離と酸化膜形成の反応ダイナミクス(領域 9)
- 15aPS-22 銅表面における酸素吸着反応ダイナミクス(領域 9)
- 超音速酸素分子線を用いたSi(001)表面の高温酸化過程における化学反応ダイナミクス
- 超高真空対応型配向分子線ビームラインの開発
- 28pPSB-42 表面反応ダイナミクス研究のための超高真空対応配向分子ビーム装置の開発 (1)
- 放射光リアルタイム光電子分光を用いた酸素ガスによる Si(OO1)表面の熱酸化初期過程の"その場"観察
- 6aSP-1 超音速酸素分子ビームによるCu{001}表面の酸化過程の光電子分光研究(表面界面ダイナミクス,領域9)
- 8aSP-1 O2分子の運動エネルギー誘起されるSi(001)表面の酸化反応素過程(表面界面ダイナミクス,領域9)