15aPS-26 SiO 質量分析と Si-2p 光電子分光の同時計測による Si(001) 表面における SiO 脱離と酸化膜形成の反応ダイナミクス(領域 9)
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2004-08-25
著者
-
盛谷 浩右
兵庫県立大学大学院工学研究科機械系工学専攻
-
寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
-
寺岡 有殿
原研
-
寺岡 有殿
原研放射光
-
鉢上 隼介
原研
-
吉越 章隆
(独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
-
吉越 章隆
原研放射光
-
盛谷 浩右
原研放射光
-
鉢上 隼介
神戸大院工
-
盛谷 浩右
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
-
吉越 章隆
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
-
吉越 章隆
原研 放射光科学研セ
-
寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構
-
寺岡 有殿
日本原子力研究所放射光科学研究センター
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