TiAl表面酸化のシンクロトロン放射光を用いた光電子分光研究
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概要
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The oxidation processes on a TiAl surface induced by a hyperthermal O2 molecular beam (HOMB) with a translational energy of 2.2 eV was studied by X-ray photoemission spectroscopy in conjunction with synchrotron radiation. At a surface temperature of 300 K, the simultaneous growth of Al and Ti oxides accompanied with the segregation of Al2O3 near the surface was observed. The efficiency of oxidation for the HOMB incidence was smaller than that for O2 backfilling (25 meV). Furthermore, the chemical compositions of oxide species (Al2O3, Ti2O3, TiO2) on the TiAl surface were independent of the translational energy of incident O2 molecule. The present results suggest that the oxidation on TiAl surface proceed via precursor molecular states.
著者
-
笠井 俊夫
大阪大学大学院理学研究科化学専攻反応物理化学研究室
-
岡田 美智雄
大阪大学科学教育機器リノベーションセンター
-
寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
-
HARRIES James
日本原子力研究開発機構
-
橋之口 道宏
大阪大学科学教育機器リノベーションセンター
-
角本 雄一
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
-
戸出 真由美
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
-
笠井 俊夫
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
-
寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構
-
笠井 俊夫
大阪大学大学院理学研究科
-
寺岡 有殿
日本原子力研究所放射光科学研究センター
-
寺岡 有殿
日本原子力研究所
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