Si(110)面上熱酸化膜形成時におけるSiサブオキサイド時間発展のXPSリアルタイム測定
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概要
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- 2008-06-02
著者
-
齋藤 英司
東北大学電気通信研究所
-
末光 眞希
東北大学電気通信研究所
-
松本 光正
東北大学電気通信研究所
-
吉越 章隆
日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター
-
山本 喜久
東北大学電気通信研究所
-
富樫 秀晃
東北大学電気通信研究所
-
今野 篤史
東北大学電気通信研究所
-
加藤 篤
東北大学電気通信研究所
-
寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構
-
寺岡 有殿
日本原子力研究所放射光科学研究センター
-
吉越 章隆
日本原子力研究開発機構
-
吉越 章隆
日本原子力研究所
-
寺岡 有殿
日本原子力研究所
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