パルス電界常圧プラズマCVD法を用いたプラスチック基板上Si成長(TFT(有機,酸化物),一般)
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概要
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パルス電界常圧プラズマCVD法を用いてPET基板上に多結晶Si(Poly-Si)成長を行い,Raman散乱分光法および透過電子顕微鏡(TEM)観察によりSi薄膜の結晶構造評価を行った.Poly-si膜の結晶化率は80%以上の高い値を示した.また成長速度は40nm/minと高速であり,インキュベーション層を介さずに基板直上からSi成長していることが確認された.
- 2009-04-16
著者
-
野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
-
野中 誠
昭和大学藤が丘病院呼吸器外科
-
末光 眞希
東北大学電気通信研究所
-
松本 光正
東北大学電気通信研究所
-
豊島 安健
産業技術総合研究所エネルギー技術研究部門
-
末光 眞希
東北大通研
-
村重 正悟
東北大学電気通信研究所
-
稲吉 陽平
東北大学電気通信研究所
-
中嶋 節男
積水化学工業株式会社
-
上原 剛
積水化学工業株式会社
-
豊島 安健
独立行政法人産業総合研究所エネルギー研究技術研究部門
-
末光 真希
東北大学電気通信研究所
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