吉越 章隆 | (独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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概要
関連著者
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吉越 章隆
(独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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吉越 章隆
原研 放射光科学研セ
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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吉越 章隆
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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寺岡 有殿
日本原子力研究所放射光科学研究センター
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寺岡 有殿
原研
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吉越 章隆
日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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吉越 章隆
日本原子力研究所
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寺岡 有殿
日本原子力研究所
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盛谷 浩右
兵庫県立大学大学院工学研究科機械系工学専攻
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盛谷 浩右
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
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石塚 眞治
秋田工業高等専門学校 物質工学科
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高桑 雄二
東北大学多元物質科学研究所
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高桑 雄二
東北大学 多元物質科学研究所
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小川 修一
東北大学多元物質科学研究所
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小川 修一
東北大学 多元物質科学研究所
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石塚 眞治
秋田工業高等専門学校
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水野 善之
スタンフォード大学 スタンフォード加速器センター
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盛谷 浩右
日本原子力研究開発機構 放射光科学研究ユニット
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水野 善之
スタンフォード大
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頓田 英機
熊本大学工学部知能生産システム工学科
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頓田 英機
熊本大学自然科学研究科
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頓田 英樹
熊本大
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頓田 英機
熊本大学大学院自然科学研究科マテリアル工学専攻
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本間 禎一
千葉工業大学精密機械工学科
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寺岡 有殿
原研 関西研
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笠井 俊夫
大阪大学大学院理学研究科化学専攻反応物理化学研究室
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岡田 美智雄
大阪大学科学教育機器リノベーションセンター
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寺岡 有殿
(独)日本原子力研究開発機構
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吉越 章隆
原研
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盛谷 浩右
原研
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吉越 章隆
原研関西研
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末光 眞希
東北大学電気通信研究所
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高桑 雄二
東北大科研
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寺岡 有殿
原研放射光
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本間 禎一
千葉工業大学工学部
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石塚 眞治
秋田高専
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鉢上 隼介
原研
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本間 禎一
千葉工大
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小川 修一
東北大多元研
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山本 喜久
スタンフォード大学ギンズトン研究所
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高橋 真
コベルコ科研:京大院理:原研
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頓田 英樹
熊本大学自然科学研究科
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本間 禎一
千葉工大工
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今野 篤史
東北大学
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山本 喜久
東北大学電気通信研究所
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富樫 秀晃
東北大学電気通信研究所
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加藤 篤
東北大学電気通信研究所
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吉越 章隆
原研放射光
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盛谷 浩右
原研放射光
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有賀 哲也
京大院理:jst-crest
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高桑 雄二
東北大
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山本 喜久
NTT電気通信研究所
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山本 喜久
国立情報学研究所:スタンフォード大学
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山本 喜久
日本電信電話株式会社 Ntt物性科学基礎研究所:スタンフォード大学 ギンツトン研究所
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山本 喜久
スタンフォード大:nii
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山本 喜久
スタンフォード大学 国際共同研究量子もつれプロジェクト
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山本 喜久
E.l. Ginzton Laboratory Stanford University
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山本 喜久
国立情報学研究所情報学プリンシプル研究系
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笠井 俊夫
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
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山本 喜久
国立情報学研究所:スタンフォード大学:東京大学
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笠井 俊夫
大阪大学大学院理学研究科
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山本 喜久
国立情報学研究所量子情報国際研究センター:スタンフォード大学ギンツトン研究所
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有賀 哲也
京都大学大学院理学研究科
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本間 禎一
千葉工業大学
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成田 克
山形大学工学部
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齋藤 英司
東北大学電気通信研究所
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松本 光正
東北大学電気通信研究所
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奥山 弘
京大院理
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有賀 哲也
京大院理
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頓田 英機
熊本大学 工学部
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岡田 美智雄
阪大院理
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笠井 俊夫
阪大院理
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大野 真也
横国大工
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田中 正俊
横国大工
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新江 定憲
横国大工
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豊島 弘明
横国大工
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盛谷 浩右
兵庫県立大学大学院工学研究科 機械系工学専攻機械知能部門
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岡田 美智雄
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
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安田 哲二
半導体MIRAI-産総研ASRC
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志村 考功
大阪大学大学院工学研究科
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福山 哲也
大阪大学大学院理学研究科化学専攻
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小川 修一
東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻博士後期課程
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高橋 真
京大院理
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水野 善之
Stanford Linear Accelerator Center, Stanford University
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有賀 哲也
コベルコ科研
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寺岡 有殿
コベルコ科研
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吉越 章隆
コベルコ科研
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藤本 洋介
京大院理
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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末光 眞希
東北大学学際科学国際高等研究センター
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寺岡 有殿
独立行政法人 日本原子力研究開発機構
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吉越 章隆
独立行政法人 日本原子力研究開発機構
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宗和 誠
大阪大学大学院理学研究科化学専攻反応物理化学研究室
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山崎 大地
大阪大学大学院理学研究科化学専攻反応物理化学研究室
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今野 篤史
東北大学電気通信研究所
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成廣 英介
大阪府立大学理学系研究科
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加藤 篤
東北大学学際科学国際高等研究センター
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富樫 秀晃
東北大学学際科学国際高等研究センター
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今野 篤史
東北大学学際科学国際高等研究センター
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山本 喜久
東北大学学際科学国際高等研究センター
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成田 克
九州工科大学
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鉢上 隼介
神戸大院工
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渡部 平司
大阪大学大学院工学研究科
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山本 喜久
NTT基礎研
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末光 眞希
東北大通研
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森本 真弘
横国大工
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末光 真希
東北大学電気通信研究所
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安田 哲二
産業技術総合研究所
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細井 卓治
大阪大学大学院工学研究科
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井上 慧
横国大工
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Harries James
Quantum Beam Science Directorate Japan Atomic Energy Agency
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戸出 真由美
(独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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戸出 真由美
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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成廣 英介
大阪府立大学大学院理学系研究科物理科学専攻
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田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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森本 真弘
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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大野 真也
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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宗和 誠
大阪大学大学院理学研究科
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山崎 大地
大阪大学科学教育機器リノベーションセンター
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井上 慧
横浜国立大学大学院工学研究院
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新江 定憲
横浜国立大学大学院工学研究院
-
豊島 弘明
横浜国立大学大学院工学研究院
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尾形 祥一
横浜国立大学大学院工学研究院
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山田 貴壽
(独)産業技術総合研究所 ナノチューブ応用研究センター
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盛谷 浩右
兵庫県立大学大学院工学研究科
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成田 克
山形大学
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渡辺 大輝
東北大学 多元物質科学研究所
-
長谷川 雅孝
(独)産業技術総合研究所 ナノチューブ応用研究センター
-
箕浦 佑也
大阪大学大学院工学研究科
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新江 定憲
横国大院工
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田中 亮平
大阪大学大学院工学研究科
-
秀島 伊織
大阪大学大学院工学研究科
著作論文
- 超音速酸素分子ビームによる並進運動エネルギー誘起Ti(0001)表面酸化反応
- 超音速窒素分子ビームを用いたTi(0001)表面窒化反応のリアルタイム光電子分光観察
- 高輝度・高分解能放射光で見えてきた表面化学反応ダイナミクス : 超音速O_2分子線で誘起される表面酸化反応のその場光電子分光
- リアルタイム光電子分光によるTi(0001)表面酸化反応の観察
- 15aPS-23 極薄 Ti 酸化膜の分解過程のリアルタイム光電子分光観察(領域 9)
- Ti(0001)表面酸化における極薄酸化膜成長と酸化状態
- 22aYE-9 Ti(0001) 表面酸化における極薄酸化膜形成過程のリアルタイム計測
- リアルタイム光電子分光によるTi(0001)表面酸化反応の「その場」観察
- 22pPSB-12 高分解能XPSおよび超音速分子線法による4H-SiC(0001)表面の酸化過程の研究(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 30aPS-48 超音速分子線によるRu(0001)表面上の酸素吸着の研究(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 放射光リアルタイム光電子分光で観たSi(111)表面の酸化過程
- Al(111)表面における超音速N_2ビームによる極薄AlN膜形成
- Cu_3Au表面自然酸化のシンクロトロン放射光を用いた光電子分光研究
- Si(110)面上熱酸化膜形成時におけるSiサブオキサイド時間発展のXPSリアルタイム測定(ゲート絶縁膜形成およびメモリ技術,ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Si(001)表面における酸化膜形成とSiO脱離の共存機構
- 室温における酸素分子のSi(111)-7×7表面での初期吸着ダイナミクス
- Si(110)とSi(100)表面の初期酸化過程の違い : リアルタイム光電子分光測定から(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 15aPS-26 SiO 質量分析と Si-2p 光電子分光の同時計測による Si(001) 表面における SiO 脱離と酸化膜形成の反応ダイナミクス(領域 9)
- 15aPS-22 銅表面における酸素吸着反応ダイナミクス(領域 9)
- 超音速酸素分子線を用いたSi(001)表面の高温酸化過程における化学反応ダイナミクス
- リアルタイム光電子分光による極薄チタニウム酸化膜形成過程の「その場」観察 (特集/放射光利用とナノテクノロジー)
- 放射光光電子分光による重水素イオン注入V_Cr_Ti_表面の熱変性分析
- 高分解能放射光を用いたその場光電子分光法でみるSi(001)表面の酸化反応ダイナミクス
- 超音速O_2分子ビームで誘起されるSi(001)室温酸化の反応ダイナミクス
- O_2分子のSi(001)表面への初期吸着とSiO脱離に及ぼす運動エネルギーの影響
- Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 放射光リアルタイムXPSで観たSi(111)-7×7の室温酸化における初期酸化物とその生成過程
- リアルタイム光電子分光によるグラフェン・オン・ダイヤモンド形成過程の観察
- Metal/High-k/Geゲートスタックにおけるジャーマナイド形成とその電気特性への影響(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)